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Dado oficial do INPI

CONCENTRADO À VÁCUO E RESPECTIVO PROCESSO

IndeferidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0502548

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

07/03/2005

Publicação

31/10/2006

Andamento no INPI

  1. Depósito07/03/05
  2. Publicação31/10/06
  3. Exame
  4. Indeferido26/08/14
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido em 26/08/2014 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 26/08/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

H. B. (pessoa física)

RS, BR

Inventores

H. B. (pessoa física)

BR

J. M. (pessoa física)

BR

P. B. (pessoa física)

BR

S. R. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

"CONCENTRADOR À VÁCUO E RESPECTIVO PROCESSO". Cujo objetivo é concentrar uma solução química a baixa temperatura utilizando-se do princípio físico de que a água entra em ebulição a temperaturas abaixo de 100 C se sofrer o aquecimento quando submetida a vácuo (pressões negativas em relação à pressão atmosférica), ocorrendo, nesse caso, a formação de vapor de água que se desprende da solução, aumentando a concentração da mesma, esse vapor de água é posteriormente resfriado voltando à forma líquida (água) que é drenada e pode ser reaproveitada no processo industrial de origem da solução que está sendo concentrada. No final do processo teremos uma solução com alta concentração química que pode sofrer tratamento p/ retornar ao processo de origem. Esta proposta permite afirmar que em alguns processos tem-se descarte zero para o meio ambiente.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Indeferimento mantido em recurso

#9.2.4

MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.

26/08/2014

RPI 2277

Indeferimento

#9.2

15/04/2014

RPI 2258

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

10/09/2013

RPI 2227

Publicação do pedido de patente

#3.1

31/10/2006

RPI 1869

Pedido de patente depositado

#2.1

23/08/2005

RPI 1807

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