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Dado oficial do INPI

CATODO PARA PULVERIZAÇÃO SOB VÁCUO

IndeferidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0500021

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

10/01/2005

Publicação

05/09/2006

Andamento no INPI

  1. Depósito10/01/05
  2. Publicação05/09/06
  3. Exame
  4. Indeferido01/12/20
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido em 01/12/2020 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 01/12/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Tecmachine

FR

Inventores

L. L. (pessoa física)

FR

M. A. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

"CATODO PARA PULVERIZAÇÃO SOB VÁCUO". O catodo para pulverização sob vácuo cujo suporte de alvo (2) é constituído por um resfriador é notável pelo fato de que ele compreende uma base de sustentação (3) sobre a qual é superposto um quadro (11) que delimita pelo menos um espaço vazio (1a) para a circulação de um fluido de resfriamento, o dito quadro (11) recebendo em superposição uma membrana (4), a base (3), o quadro (11) e a membrana (4) sendo unidos juntos na periferia.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Indeferimento mantido em recurso

#9.2.4

MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL

01/12/2020

RPI 2604

Indeferimento

#9.2

15/09/2020

RPI 2593

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

12/05/2020

RPI 2575

Exigência preliminar (variante)

#6.22

17/12/2019

RPI 2554

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

29/01/2019

RPI 2508

Publicação do pedido de patente

#3.1

05/09/2006

RPI 1861

Pedido de patente depositado

#2.1

15/02/2005

RPI 1780

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