Dados do pedido
Número
PI0417477Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2004018876 Patente concedida em 03/04/2018 e depois extinta em 23/07/2024. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 23/07/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
AVENT, INC.
US
KIMBERLY-CLARK WORLDWIDE, INC.
US
O&M HALYARD INTERNATIONAL UNLIMITED COMPANY
IE
Inventores
A. Y. (pessoa física)
US
E. S. (pessoa física)
US
J. B. (pessoa física)
US
J. M. (pessoa física)
US
R. Q. (pessoa física)
US
Prioridades unionistas
US
10/739,531 · 18/12/2003
Resumo técnico
MÁSCARA FACIAL E MÉTODO PARA A FORMAÇÃO DA MESMA Uma composição de revestimento que é incorporada em uma mascara facial para reduzir a formação de névoa e ofuscação é proporcionada. Por exemplo, em sua modalidade, a máscara facial contém um ou visor formado de um substrato transparente tendo pelo menos uma superfície aplicada com a composição de revestimento da presente invenção. Os presentes inventores descobriram, inesperadamente, que um ou mais polímeros orgânicos solúveis em água, tal como etil hidróxietilcelulose, podem ser utilizados como um componente principal da composição de revestimento para reduzir a formação de névoa e ofuscação de uma maneira simples, ainda que eficaz.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2778 de 02-04-2024 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
23/07/2024
RPI 2794
#21.6
Referente à 20ª anuidade.
02/04/2024
RPI 2778
#25.1
29/01/2019
RPI 2508
#16.1
03/04/2018
RPI 2465
#9.1
14/02/2018
RPI 2458
#25.1
18/04/2017
RPI 2415
#7.1
26/01/2016
RPI 2351
#6.6
18/08/2015
RPI 2328
#1.3
08/05/2007
RPI 1896
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