Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
28/04/2009
RPI 1999
Dados do pedido
Número
PI0415831Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2004052426 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 04/10/2004, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 28/04/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Ciba Specialty Chemicals Holding INC.
CH
Inventores
G. K. (pessoa física)
CH
L. F. (pessoa física)
DE
M. D. (pessoa física)
CH
O. W. (pessoa física)
CH
R. L. (pessoa física)
CH
T. Y. (pessoa física)
GB
Classificação IPC
Prioridades unionistas
CH
01817/03 · 23/10/2003
Resumo técnico
"MISTURAS DE PIGMENTO DE DICETOPIRROLOPIRROL ESTÁVEIS AO CALOR". A presente invenção diz respeito a um processo para a preparação de uma mistura que compreende pelo menos dois pigmentos de dicetopirrolopirrol estruturalmente diferentes de fórmula (1), em que A~ 1~, e A~ 2~ São cada um independentemente do outro um radical aromático ou heteroaromático, mediante a reação de um éster de ácido succínico com pelo menos uma nitrila aromática ou heteroaromática não substituída ou substituída, cujo processo compreende realizar a reação na presença de pelo menos um composto de fórmula (2), em que A é um radical aromático ou heteroaromático, R~ 3~ é hidrogênio, halogeno, metila, metóxi, -CF~ 3~ ou -CN, R~ 4~ é um radical de alquila C~ 1~-C~ 30~, arila C~ 6~-C~ 10~ ou aralquila C~ 6~-C~ 24~ linear ou, de C~ 3~ em diante, opcionalmente ramificado, X é -S-, -O-, -CR~ 5~R~ 5~ , -COO-, -CONR~ 5~-1 -SO-, SO~ 2~-, -SO~ 2~NR~ 5~- OU -NR~ 5~-, e R~ 5~ e R~ 5~ são cada um independentemente do outro hidrogênio ou um radical de alquila C~ 1~-C~ 30~, arila C~ 6~-C~ 1O~ ou aralquila C~ 6~C~ 24~ linear ou, de C~ 3~ em diante, opcionalmente ramificado, ao uso de uma tal mistura na coloração de material orgânico e em cosméticos, e também às novas misturas de pigmento de dicetopirrolopirrol.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
28/04/2009
RPI 1999
#11.1
02/09/2008
RPI 1965
#1.3
02/01/2007
RPI 1878
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