21.8
Anulada a publicação código 21.6 na RPI nº 2900 de 04/08/2026 por ter sido indevida.
18/08/2026
RPI 2902
Dados do pedido
Número
PI0414338Tipo
Depósito
Publicação
PCT
NL2004000632 Patente concedida em 29/12/2015 e depois extinta em 04/08/2026. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/08/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Outokumpu Technology Oy
FI
Inventores
W. P. (pessoa física)
NL
Classificação IPC
Prioridades unionistas
NL
1024281 · 12/09/2003
Resumo técnico
"DISPOSITIVO PARA REALIZAÇÃO DE UM TRATAMENTO QUÍMICO OU FÍSICO". A presente invenção refere-se a um dispositivo para tratamento químico ou físico, compreendendo uma estrutura (2), na qual é disposta uma plataforma giratória (5) de forma rotativa. Vasos de reação (7) são dispostos na plataforma giratória (5) e uma diferente conexão entre as linhas de alimentação/descarga, as quais são conectadas de modo fixo à estrutura (2) e aos vasos de ração (7), é constantemente fornecida através de uma unidade de válvula (8). A unidade de válvula (8) compreende dois discos (9, 10), cada qual fornecido com portas que são posicionadas de modo oposto entre si em posições constantemente modificadas. A fim de minimizar o tempo não-operacional, é realizado um movimento de graduação utilizando a plataforma giratória (5). No caso de instalações relativamente grandes, para prevenir forças associadas de afetarem o movimento da unidade de válvula, se propõe que a unidade de válvula (9) seja encaixada diretamente na plataforma giratória (5) e que a plataforma giratória (4) seja acionada diretamente pelo motor (12).
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Anulada a publicação código 21.6 na RPI nº 2900 de 04/08/2026 por ter sido indevida.
18/08/2026
RPI 2902
#21.6
Referente à 22ª anuidade.
04/08/2026
RPI 2900
#16.1
29/12/2015
RPI 2347
#9.1
20/10/2015
RPI 2337
#6.1
01/10/2013
RPI 2230
#1.3
07/11/2006
RPI 1870
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