Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2262 de 13/05/2014.
02/09/2014
RPI 2278
Dados do pedido
Número
PI0412515Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2004021998 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 02/09/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
W.R. Grace & Co-Conn
US
Inventores
J. P. (pessoa física)
US
J. C. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/486,686 · 11/07/2003
Resumo técnico
"PARTÍCULAS ABRASIVAS PARA POLIMENTO QUÍMICO MECÂNICO". A presente invenção se refere a uma composição abrasiva para o polimento de substratos que incluem uma pluralidade de partículas abrasivas dotadas de uma distribuição de tamanho de partícula polidispersa com um tamanho médio, por volume, estando em cerca de 20 nanômetros a cerca de 100 nanômetros, o valor de amplitude, por volume, sendo superior ou igual a cerca de 20 nanômetros, onde a fração de partículas superior ou igual a cerca de 100 nanômetros é menor ou igual a 20% em volume das partículas abrasivas.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2262 de 13/05/2014.
02/09/2014
RPI 2278
#6.1
13/05/2014
RPI 2262
#8.6
Referente à 10ª anuidade.
13/05/2014
RPI 2262
#1.3
19/09/2006
RPI 1863
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