Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL
27/02/2018
RPI 2460
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Dado oficial do INPI
APARELHO E MÉTODO PARA TRATAR UM SUBSTRATO EM MOVIMENTO DE COMPRIMENTO INDEFINIDO
IndeferidaPatente de InvençãoPCT · US2004007193
Dados do pedido
Número
PI0409605Tipo
Patente de Invenção
Depósito
08/03/2004
Publicação
18/04/2006
PCT
US2004007193 Andamento no INPI
- Depósito08/03/04
- Publicação18/04/06
- Exame
- Indeferido27/02/18
- Concessão
- Em vigor
Pedido indeferido em 27/02/2018 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/02/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
3M Innovative Properties Company
US
Inventores
C. M. (pessoa física)
US
N. J. (pessoa física)
US
W. K. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
10/421,195 · 23/04/2003
Resumo técnico
"APARELHO E MÉTODO PARA TRATAR UM SUBSTRATO EM MOVIMENTO DE COMPRIMENTO INDEFINIDO". São descritos um aparelho (10a) e um método para tratar um substrato em movimento (12) de comprimento indefinido. O aparelho (10a) tem uma superfície de controle (15) posicionada em estreita proximidade com uma superfície (14) do substrato (12) para definir uma folga de controle (G) entre o substrato (12) e a superfície de controle (15). Uma primeira câmara (17) fica posicionada próxima à superfície de controle (15), com a primeira câmara (17) tendo um dispositivo de introdução de gás (21). Uma segunda camara (16a) fica posicionada próxima à superfície de controle (15), a segunda câmara (16a) tendo um dispositivo de extração de gás (18a). A superfície de controle (15) e as câmaras (17, 16a) juntas definem uma região na qual um fluxo de massa de gás é controlado para reduzir significativamente a diluição de um componente de fase gasosa. Isto é obtido por meio da introdução de uma corrente de gás controlada (M1 ), reduzindo-se assim o fluxo de uma corrente de gás ambiente descontrolado por causa de gradientes de pressão no sistema.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Indeferimento
#9.2
10/10/2017
RPI 2440
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
04/04/2017
RPI 2413
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
18/04/2006
RPI 1841
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