Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 07/04/2024
06/03/2025
RPI 2826
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Dado oficial do INPI
Composição de resina fotossensível, camada fotossensível desta e placa de impressão original de resina fotossensível
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2004004981
Dados do pedido
Número
PI0409111Tipo
Patente de Invenção
Depósito
07/04/2004
Publicação
28/03/2006
PCT
JP2004004981 Andamento no INPI
- Depósito07/04/04
- Publicação28/03/06
- Exame
- Deferimento19/07/11
- Concessão10/09/13
- Expirado06/03/25
Carta-patente expirada em 06/03/2025: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 06/03/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
TOYOBO CO., LTD.
JP
T. C. (pessoa física)
JP
T. K. (pessoa física)
JP
Inventores
A. T. (pessoa física)
JP
T. H. (pessoa física)
JP
T. W. (pessoa física)
JP
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2003-103021 · 07/04/2003
JP
2004-103509 · 31/03/2004
Resumo técnico
"COMPOSIÇÃO DE RESINA FOTOSSENSÍVEL, CAMADA FOTOSSENSÍVEL DESTA E PLACA DE IMPRESSÃO ORIGINAL DE RESINA FOTOSSENSÍVEL". A presente invenção tem como objetivo obter sem qualquer problema, uma composição de resina fotossensível que pode ser desenvolvida com um revelador a base de água, sendo resistente às tintas a base de água e às tintas de co-solventes e melhorar a reprodução de imagens e obter uma camada fotossensível relevante e placa de impressão original de resina fotossensível. Esta composição de resina fotossensível compreende no mínimo dois tipos de polímeros hidrofóbicos (A) obtidos de látex disperso em água, um composto fotopolimerizável (B) e um iniciador de polimerização (C) caracterizado pelo fato de que no mínimo dois tipos de polímeros hidrofóbicos estão presentes na forma de partículas.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Transferência deferida
#25.1
16/04/2024
RPI 2780
Alteração de nome deferida
#25.4
26/03/2024
RPI 2777
Concessão da patente
#16.1
10/09/2013
RPI 2227
9.1.3
26/02/2013
RPI 2199
Deferimento
#9.1
19/07/2011
RPI 2115
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
28/03/2006
RPI 1838
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