Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
14/04/2009
RPI 1997
Dados do pedido
Número
PI0407605Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2004050096 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 09/02/2004, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/04/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Ciba Specialty Chemicals Holding Inc
CH
Inventores
A. M. (pessoa física)
JP
H. Y. (pessoa física)
JP
P. M. (pessoa física)
CH
T. H. (pessoa física)
CH
T. A. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
03 405103.7 · 19/02/2003
EP
03 405130.0 · 27/02/2003
EP
03 405432.0 · 17/06/2003
Resumo técnico
"DERIVADOS DE OXIMA HALOGENADOS E O USO DOS MESMOS COMO ÁCIDOS LATENTES". Compostos da fórmula I or II nas quais R~ 1~, é C~ 1~-C~ 10~haloalquilsulfonila, halobenzenossulfonila, C~ 2~- C~ 10~haloalcanoíla, halobenzoíla; R~ 2~ é halogênio or C~ 1~-C~ 10-~ haloalquila; Ar~ 1~, is fenila, bifenilila, fluorenila, naftila, antracila, fenantrila, or heteroarila, todos os quais estão opcionalmente substituídos; Ar ~ 1~ é, por exemplo, fenileno, naftileno, difenileno, heteroarileno, óxidifenileno, fenilenoD-D~ 1~-D-fenileno ou -Ar'~ 1~-A~ 1~-Y~ 1~-A~ 1~-Ar'~ 1~-; sendo que esses radicais estão opcionalmente substituídos; Ar'~ 1~ é fenileno, naftileno, antracileno, fenantrileno ou heteroarileno, todos opcionalmente substituídos; A~ 1~ é, por exemplo, uma ligação direta, -O-, -S- ou -NR~ 6~-; Y é, entre outros, C~ 1~-C~ 18~alquileno; X é halogênio, D é, por exemplo, -O-, -S- ou -NR~ 6~-; D~ 1~, é, entre outros, C~ 1~C~ 18~alquileno; são particularmente apropriados como ácidos fotolatentes em tecnologia de resistores de ArF.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
14/04/2009
RPI 1997
#11.1
02/09/2008
RPI 1965
#1.3
14/02/2006
RPI 1832
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