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Dado oficial do INPI

DERIVADOS DE OXIMA HALOGENADOS E O USO DOS MESMOS COMO ÁCIDOS LATENTES

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2004050096

Dados do pedido

Número

PI0407605

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

09/02/2004

Publicação

14/02/2006

PCT

EP2004050096

Andamento no INPI

  1. Depósito09/02/04
  2. Publicação14/02/06
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 09/02/2004, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 14/04/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Ciba Specialty Chemicals Holding Inc

CH

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Inventores

A. M. (pessoa física)

JP

H. Y. (pessoa física)

JP

P. M. (pessoa física)

CH

T. H. (pessoa física)

CH

T. A. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

EP

03 405103.7 · 19/02/2003

EP

03 405130.0 · 27/02/2003

EP

03 405432.0 · 17/06/2003

Resumo técnico

"DERIVADOS DE OXIMA HALOGENADOS E O USO DOS MESMOS COMO ÁCIDOS LATENTES". Compostos da fórmula I or II nas quais R~ 1~, é C~ 1~-C~ 10~haloalquilsulfonila, halobenzenossulfonila, C~ 2~- C~ 10~haloalcanoíla, halobenzoíla; R~ 2~ é halogênio or C~ 1~-C~ 10-~ haloalquila; Ar~ 1~, is fenila, bifenilila, fluorenila, naftila, antracila, fenantrila, or heteroarila, todos os quais estão opcionalmente substituídos; Ar ~ 1~ é, por exemplo, fenileno, naftileno, difenileno, heteroarileno, óxidifenileno, fenilenoD-D~ 1~-D-fenileno ou -Ar'~ 1~-A~ 1~-Y~ 1~-A~ 1~-Ar'~ 1~-; sendo que esses radicais estão opcionalmente substituídos; Ar'~ 1~ é fenileno, naftileno, antracileno, fenantrileno ou heteroarileno, todos opcionalmente substituídos; A~ 1~ é, por exemplo, uma ligação direta, -O-, -S- ou -NR~ 6~-; Y é, entre outros, C~ 1~-C~ 18~alquileno; X é halogênio, D é, por exemplo, -O-, -S- ou -NR~ 6~-; D~ 1~, é, entre outros, C~ 1~C~ 18~alquileno; são particularmente apropriados como ácidos fotolatentes em tecnologia de resistores de ArF.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

14/04/2009

RPI 1997

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

02/09/2008

RPI 1965

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

14/02/2006

RPI 1832

Monitoramento de patentes

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