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Dado oficial do INPI

VÁLVULA PARA CRIAÇÃO DE VÁCUO OU LIMPEZA DE RECIPIENTES, PROCESSO PARA CRIAR UM AMBIENTE COM VÁCUO E PROCESSO PARA LIMPEZA A VÁCUO

Em AnálisePatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0403219

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

12/08/2004

Publicação

15/02/2005

Andamento no INPI

  1. Depósito12/08/04
  2. Publicação15/02/05
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 30/05/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Planatc Tecnologia Eletrônica Automotiva LTDA.

SP, BR

Planatc Tecnologia Eletrônica Automotiva Ltda. - EPP

SP, BR

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Inventores

I. C. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

"VÁLVULA PARA CRIAÇÃO DE VÁCUO OU LIMPEZA DE RECIPIENTES, PROCESSO PARA CRIAR UM AMBIENTE COM VÁCUO E PROCESSO PARA LIMPEZA A VÁCUO". A válvula (1) é uma peça metálica, cilíndrica, composta, essencialmente, de um corpo cilíndrico (2) provido de rosca externa para aplicação ao dispositivo receptor, onde são previstos, ainda, meios de vedação (4) entre o mencionado corpo cilíndrico (2) e o referido dispositivo receptor (D). O dito corpo cilíndrico (2) é dotado, em uma extremidade, de aberturas radiais (5) que se comunicam com o seu interior, ao passo que uma sede circular recebe uma pequena válvula (1) de fluxo de ar (7). A extremidade oposta do mencionado corpo cilíndrico se finda junto a uma câmara de filtragem (8), que recepciona um elemento filtrante (9) com uma esfera interna (10), sendo a referida câmara alojada no interior de uma sede cilíndrica com aberturas (12) que se comunicam com o meio ambiente. Uma vez acoplada a válvula (1) o dispositivo receptor (D), este revela um conduto que se comunica com o recipiente onde será criado o vácuo ou submetido ao processo de limpeza, referido dispositivo receptor (D) revelando uma abertura alinhada com o descrito corpo cilíndrico, abertura esta por onde é injetado ar ou qualquer outro fluído, de modo a criar no citado recipiente o vácuo necessário, ou promover, por este efeito, a limpeza do mesmo, que é direcionado para a câmara de filtragem (8), onde a esfera (10) libera o fluxo pelas aberturas que se comunicam com o meio ambiente. Uma vez eliminado o fluxo de ar ou outro fluído, automaticamente a esfera (10) se desloca de modo a evitar o retorno de ar para o interior da válvula (1) , mantendo as características de vácuo no interior do recipiente.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Alteração de nome indeferida

#25.5

Indeferido o pedido de alteração de nome contido na petição 018130037465 de13/11/2013, conforme disposto no art. 59 da Lei 9279 de 14/05/1996, pelo fato do pedido depatente ter sido arquivado definitivamente na RPI 2342 de 24/11/2015.

30/05/2017

RPI 2421

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2318 de 09-06-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

24/11/2015

RPI 2342

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 11ª anuidade.

09/06/2015

RPI 2318

Alteração de nome deferida

#25.4

Alterado de: Planatc Tecnologia Eletrônica Automotiva Ltda.

21/09/2010

RPI 2072

Publicação antecipada

#3.2

15/02/2005

RPI 1780

Pedido de patente depositado

#2.1

26/10/2004

RPI 1764

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