Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2129 de 25/10/2011.
15/05/2012
RPI 2158
Dados do pedido
Número
PI0314904Tipo
Depósito
Publicação
PCT
AU2003001393 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 15/05/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Intec Ltd.
AU
Inventores
C. L. (pessoa física)
AU
Prioridades unionistas
AU
2002952181 · 21/10/2002
Resumo técnico
"PROCESSO PARA A RECUPERAÇÃO DE METAL DE UMA SOLUÇÃO AQUOSA, CÉLULA PARA A ELETRO-RECUPERAÇÃO DE METAL DE UMA SOLUÇÃO AQUOSA, CÁTODO PARA SER USADO EM UMA CÉLULA DE ELETRÓLISE PARA A ELETRO-RECUPERAÇÃO DE METAL DE UMA SOLUÇÃO AQUOSA, MECANISMO PARA REMOVER O METAL DEPOSITADO NA SUPERFÍCIE DE DEPOSIÇÃO DO CÁTODO". Trata-se de um processo de eletrólise para a recuperação de metal de uma solução aquosa. Na eletrólise, o metal da solução é levado a depositar em uma superfície de deposição de um cátodo. O processo inclui a etapa de indução de uma densidade de corrente não uniforme através da superfície de deposição para formar áreas de densidade de corrente elevada intercaladas por áreas de densidade de baixa corrente. A diferença entre as áreas de densidade de corrente elevada e de densidade de baixa corrente é suficiente para fazer com que a deposição de metal fique concentrada nas áreas de densidade de corrente elevada para promover a deposição não uniforme de metal através da superfície de deposição. Uma célula de eletrólise para a eletro-recuperação do metal de uma solução aquosa também é definida. A célula inclui um cátodo que inclui uma superfície de deposição na qual o metal é depositado com a eletrólise da solução aquosa. Na operação da célula, a superfície de deposição tem um campo elétrico não uniforme que tem áreas de campo elétrico forte intercaladas por áreas de campo elétrico fraco. A diferença entre as áreas de campo elétrico forte e de campo elétrico fraco é suficiente para fazer com que a deposição de metal fique concentrada nas áreas de campo elétrico elevado para promover a deposição não uniforme de metal na superfície.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2129 de 25/10/2011.
15/05/2012
RPI 2158
#8.6
Referente a 7ª e 8ª anuidade(s).
25/10/2011
RPI 2129
#1.3
02/08/2005
RPI 1804
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