Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2225 de 27/08/2013.
18/02/2014
RPI 2250
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Dado oficial do INPI
COMPOSIÇÕES LÍQUIDAS DE LAVANDERIA COMPREENDENDO ADITIVOS DE SILICONE
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2003018314
Dados do pedido
Número
PI0313771Tipo
Patente de Invenção
Depósito
09/06/2003
Publicação
19/07/2005
PCT
US2003018314 Andamento no INPI
- Depósito09/06/03
- Publicação19/07/05
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/02/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
General Electric Company
US
Inventores
E. S. (pessoa física)
US
J. T. (pessoa física)
US
S. L. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Prioridades unionistas
US
10/223,006 · 16/08/2002
Resumo técnico
"COMPOSIÇÕES LÍQUIDAS DE LAVANDERIA COMPREENDENDO ADITIVOS DE SILICONE". É aqui descrita uma composição compreendendo: A) um produto de lavanderia líquido; e B) um aditivo de silicone selecionado do grupo que consiste de: 1) uma emulsão polimerizada acrilatada de glicol polietileno de silicone modificada de polidimetilsiloxano; 2) uma emulsão de alto peso molecular amino modificada de polidimetilsiloxano ; 3) um aminopolialquilenooxido linear modificado de polidimetilsiloxano; 4) um aminopolialquenooxido linear neutralizado modificado de polidimetilsiloxano; 5) um polialquilenooxido pendente modificado de polidimetilsiloxano; e 6) um polialquilenooxido linear modificado de polidimetilsiloxano.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
referente a 10ª anuidade
27/08/2013
RPI 2225
Retificação da notificação da fase nacional - PCT
#1.3.1
Referente a RPI 1802 de 19/07/2005, quanto ao item (71)
20/09/2005
RPI 1811
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
19/07/2005
RPI 1802
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