Resumo técnico
"MÉTODO DE REVESTIMENTO DE UMA SUPERFÍCIE SIMPLES OU COMPLEXA, ELETRICAMENTE CONDUTORA OU SEMICONDUTORA, REVESTIMENTO E UTILIZAÇÃO DO MÉTODO". A presente invenção se refere a um método de revestimento de uma superfície simples ou complexa, eletricamente condutora ou semicondutora, por meio de um filme orgânico a partir de pelo menos um precursor do referido filme orgânico, caracterizado pelo fato de que o revestimento da superfície pelo filme orgânico, é realizado por um enxerto eletro iniciado do referido pelo menos um, precursor da referida superfície, ao aplicar pelo menos uma varredura potencial na referida superfície, realizada de uma tal maneira que em qualquer ponto da referida superfície, o potencial máximo de cada varredura potencial, em valor absoluto e com relação ao eletrodo de referência, é maior ou igual ao valor do potencial (V~ bloc~), a partir do qual as curvas do gráfico expressando a quantidade de precursor eletro enxertado, em uma superfície idêntica à referida superfície, em função do número de varreduras potenciais, são todas superpostas e independentes do referido potencial V~ bloc~.