Dados do pedido
Número
PI0312773Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2003009109 Patente concedida em 21/05/2013 e depois extinta em 24/11/2015. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 24/11/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Sankyo Company, Limited
JP
Inventores
H. Y. (pessoa física)
JP
R. O. (pessoa física)
JP
S. K. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2002-209623 · 18/07/2002
Resumo técnico
"MÉTODO PARA PRODUZIR UM COMPOSTO ALTAMENTE PURO". Um processo para a produção de compostos representados pela fórmula geral (3) e tendo pureza alta: (3) [em que R^ 1^ é alquila C~ 1-6~ OU semelhante e R^ 2^ é hidrogênio ou semelhante, ou R^ 1^ e R^ 2^ podem ser unidos para formar o alquileno C~ 1-6~; e R^ 3^ e R^ 4^ são cada um alquila C~ 1-6~ OU semelhante], que compreende a etapa de reagir um composto representado pela fórmula geral (1): (1) [em que R^ 1^ e R^ 2^ são cada um como definido acima] com um composto representado pela fórmula geral (2): (2) [em que R^ 3^ e R^ 4^ são cada um como definido acima] e a etapa de tratar a mistura de reação obtida com água ácida a O a 30 C.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2315 de 19-05-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
24/11/2015
RPI 2342
#21.6
Referente à 12ª anuidade.
19/05/2015
RPI 2315
#16.1
21/05/2013
RPI 2211
#9.1
02/04/2013
RPI 2204
#7.1
04/09/2012
RPI 2174
#1.3
03/05/2005
RPI 1791
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