Carta-patente expirada
#21.1
Patente extinta em 13/03/2023
09/05/2023
RPI 2731
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Dado oficial do INPI
SUBSTRATO ELETRÓDICO EM METAL DE VÁLVULA PARA ÂNODOS PARA FORMAÇÃO DE GÁS, E MÉTODO PARA PREPARAÇÃO DE DITO SUBSTRATO, ANODO PARA FORMAÇÃO DE GÁS EM CÉLULAS ELETROQUÍMICAS E CÉLULA DE DEPOSIÇÃO GALVÂNICA.
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2003002643
Dados do pedido
Número
PI0308413Tipo
Patente de Invenção
Depósito
13/03/2003
Publicação
18/01/2005
PCT
EP2003002643 Andamento no INPI
- Depósito13/03/03
- Publicação18/01/05
- Exame
- Deferimento17/04/12
- Concessão02/10/12
- Expirado09/05/23
Carta-patente expirada em 09/05/2023: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
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Depositantes e inventores
Depositantes
DE NORA ELETTRODI S.P.A.
IT
INDUSTRIE DE NORA S.P.A
IT
Inventores
C. M. (pessoa física)
IT
U. N. (pessoa física)
IT
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
IT
MI2002 A 000535 · 14/03/2002
Resumo técnico
"ANODO PARA FORMAÇÃO DE OXIGÊNIO E SUBSTRATO RELEVANTE". A presente invenção refere-se a um ânodo para formação de gás em aplicações eletroquímicas que compreendem um substrato de titânio ou outra válvula de metal caracterizada por uma superfície com aspereza média baixa, tendo um perfil típico de um ataque localizado nas bordas dos grãos cristalinos. Além disso a presente invenção refere-se a um método para preparar o substrato anódico da invenção que compreende um desgaste controlado em uma solução de ácido sulfúrico.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Transferência deferida
#25.1
15/03/2016
RPI 2358
Concessão da patente
#16.1
02/10/2012
RPI 2178
Deferimento
#9.1
17/04/2012
RPI 2154
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
02/08/2011
RPI 2117
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
01/03/2011
RPI 2095
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
18/01/2005
RPI 1776
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