19/06/2012
RPI 2163
Arquivamento definitivo por descumprimento
8.11
Não apresentada a guia de cumprimento de exigência. Referente à 9ª anuidade.
Patente de InvençãoPI0308303
Sita Messtechnik GMBH
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 19/06/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Resumo técnico
"DISPOSITIVO E MÉTODO PARA MONITORAMENTO E REGULAÇÃO DE UMA SOLUÇÃO DE PROCESSO". Dispositivo e método para contínuo monitoramento e regulação de solução de processo ou da concentração de aditivos em solução de processo, que influenciam a tensão superficial, em especial agentes tensioativos, em instalações industriais para depuração, revestimento e enxágue continuamente operantes, com base numa medição da tensão superficial de acordo com o método da pressão de bolha, sendo que instalações para a detecção da tensão superficial ou da concentração de aditivo de processo em solução de processo, para o processamento e execução de programa interno ao dispositivo, possível de ser estabelecido e para um monitoramento contínuo da qualidade de solução de processo e uma orientação de uma instalação externa para influir no processo são coordenadas através de um sistema de processamento de dados inteligente, que obtém dados do processo independentemente, processa-os, utiliza-os para a modificação de seu programa, permuta-os com um externo sistema de controle de processo e influencia o processo.
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
102.09.466.7 · 05/03/2002
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
19/06/2012
RPI 2163
8.11
Não apresentada a guia de cumprimento de exigência. Referente à 9ª anuidade.
28/02/2012
RPI 2147
8.6
Referente a 9ª anuidade(s).
28/12/2004
RPI 1773
1.3