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Patente de InvençãoPI0308303

DISPOSITIVO E MÉTODO PARA MONITORAMENTO E REGULAÇÃO DE UMA SOLUÇÃO DE PROCESSO

Sita Messtechnik GMBH

Arquivada/ExtintaIPC G05B 19/418PCT

Andamento no INPI

  1. Arquivado

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 19/06/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Dados técnicos

Resumo técnico

"DISPOSITIVO E MÉTODO PARA MONITORAMENTO E REGULAÇÃO DE UMA SOLUÇÃO DE PROCESSO". Dispositivo e método para contínuo monitoramento e regulação de solução de processo ou da concentração de aditivos em solução de processo, que influenciam a tensão superficial, em especial agentes tensioativos, em instalações industriais para depuração, revestimento e enxágue continuamente operantes, com base numa medição da tensão superficial de acordo com o método da pressão de bolha, sendo que instalações para a detecção da tensão superficial ou da concentração de aditivo de processo em solução de processo, para o processamento e execução de programa interno ao dispositivo, possível de ser estabelecido e para um monitoramento contínuo da qualidade de solução de processo e uma orientação de uma instalação externa para influir no processo são coordenadas através de um sistema de processamento de dados inteligente, que obtém dados do processo independentemente, processa-os, utiliza-os para a modificação de seu programa, permuta-os com um externo sistema de controle de processo e influencia o processo.

Classificação IPC

Prioridades unionistas

DE

102.09.466.7 · 05/03/2002

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

19/06/2012

RPI 2163

Arquivamento definitivo por descumprimento

8.11

Não apresentada a guia de cumprimento de exigência. Referente à 9ª anuidade.

28/02/2012

RPI 2147

Arquivamento por falta de pagamento

8.6

Referente a 9ª anuidade(s).

28/12/2004

RPI 1773

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

1.3

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