111
Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]
27/08/2019
RPI 2538
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Dado oficial do INPI
SISTEMA DE REATOR E PROCESSO PARA REAÇÕES ALTAMENTE EXOTÉRMICAS
Em AnálisePatente de InvençãoPCT · US2003005864
Dados do pedido
Número
PI0308034Tipo
Patente de Invenção
Depósito
05/02/2003
Publicação
28/12/2004
PCT
US2003005864 Andamento no INPI
- Depósito05/02/03
- Publicação28/12/04
- Exame
- Indeferido27/08/19
- Concessão
- Em vigor
Pedido indeferido em 27/08/2019 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/08/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Arco Chemical Technology, L.P.
US
Inventores
D. L. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
10/085,702 · 28/02/2002
Resumo técnico
"SISTEMA DE REATOR E PROCESSO PARA REAÇÕES ALTAMENTE EXOTÉRMICAS". A presente invenção refere-se a um processo para a produção de compostos de oxirano pela reação de uma olefina, tal como propileno, com um hidroperóxido orgânico usando um catalisador de contato sólido, caracterizado pelo fato de que uma série de zonas de reação separadas é usada, cada uma recheada com catalisador de epoxidação, e a concentração de hidroperóxido na alimentação para cada zona de reação é mantida abaixo de 8% em peso.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
120
Recorrente: O depositante.@ Despacho: Tome conhecimento do parecer técnico e se manifeste no prazo de 60 (sessenta) dias. [120]
04/06/2019
RPI 2526
Petição de recurso
#12.2
27/05/2014
RPI 2264
Indeferimento
#9.2
Indefiro o pedido de acordo com o Art. 8º combinado com o Art. 13 da LPI
02/10/2012
RPI 2178
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
10/04/2012
RPI 2153
Pedido suspenso — exigência de documentos
#6.6
09/03/2011
RPI 2096
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
28/12/2004
RPI 1773
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