(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

PROCESSOS PARA REDUZIR O CONTEÚDO DE ÍONS DO PRODUTO DE CLIVAGEM LAVADO, E PARA A PRODUÇÃO DE FENOL

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0304274

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

14/10/2003

Publicação

31/08/2004

Andamento no INPI

  1. Depósito14/10/03
  2. Publicação31/08/04
  3. Exame
  4. Deferimento12/03/13
  5. Concessão30/04/13
  6. Expirado14/01/25

Carta-patente expirada em 14/01/2025: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.

Falar com um especialista

Última movimentação publicada pelo INPI: 14/01/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Kellogg Brown & Root, Inc.

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

M. V. (pessoa física)

US

T. W. (pessoa física)

US

W. J. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

10/319619 · 15/10/2002

US

10/605155 · 11/09/2003

Resumo técnico

"PROCESSOS PARA REDUZIR O CONTEÚDO DE ÍONS DO PRODUTO DE CLIVAGEM LAVADO, E PARA A PRODUÇÃO DE FENOL". O produto de clivagem lavado (WCP) em um processo de fabricação de fenol é tratado para a remoção dos íons sódio. O WCP é colocado em contato com uma resina trocadora de cátion na forma de hidrogênio, e em seguida com uma resina trocadora de ânion na forma de base livre ou de hidróxido, para produzir um WCP essencialmente isento de íons sódio. As resinas trocadoras de cátion e de ânion são regeneradas com ácido e cáustico, respectivamente. O tratamento melhora a produtividade e a qualidade do produto em processos de fenol novos e existentes.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

PATENTE EXTINTA EM 14/10/2023

14/01/2025

RPI 2819

Concessão da patente

#16.1

30/04/2013

RPI 2208

Deferimento

#9.1

12/03/2013

RPI 2201

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

24/04/2012

RPI 2155

Publicação do pedido de patente

#3.1

31/08/2004

RPI 1756

Pedido de patente depositado

#2.1

03/02/2004

RPI 1726

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.