Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.
12/04/2011
RPI 2101
Dados do pedido
Número
PI0303025Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2003011125 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 12/04/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
P. C. (pessoa física)
US
Inventores
L. M. (pessoa física)
US
M. B. (pessoa física)
US
Y. Y. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
10/218.141 · 12/08/2002
Resumo técnico
"MÉTODO PARA FORMAÇÃO DE UM CONTATO DE BAIXA RESISTÊNCIA ENTRE UM MATERIAL METÁLICO E UM MATERIAL ORGÂNICO DE UM DISPOSITIVO SEMICONDUTOR ORGÂNICO E MÉTODO PARA CRIAÇÃO DE UM TRANSISTOR DE EFEITO DE CAMPO DE PORTA ISOLADA DE ALTO DESEMPENHO". Um processo de recozimento térmico em alta temperatura cria um contato de baixa resistência entre um material metálico e um material orgânico de um dispositivo semicondutor orgânico, o que aperfeiçoa a eficiência de injeção de portadores. O processo forma contatos ohmicos e contatos Schottky. Adicionalmente, o processo pode causar migração ou difusão de átomos ou ions de metal para o interior do material orgânico, pode fazer o material orgânico cristalizar-se, ou ambos. O resultante dispositivo semicondutor orgânico possui características operacionais aperfeiçoadas tal como velocidades de operação mais rápidas. Ao invés de utilizar calor, o processo pode utilizar outras formas de energia, tais como voltagem, corrente energia de radiação eletromagnética para aquecimento localizado, energia de infravermelhos e energia de ultravioletas. São descritos um diodo orgânico aperfeiçoado exemplar compreendendo alumínio, carbono C~ 60~, e cobre, bem como exemplos de transistores de efeito de campo de porta isolada.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.
12/04/2011
RPI 2101
#8.6
Referente a 6º anuidade.
23/02/2010
RPI 2042
#1.3
10/08/2004
RPI 1753
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