Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.
12/04/2011
RPI 2101
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Dado oficial do INPI
MÉTODO PARA PRODUÇÃO DE ÁCIDO ACRÍLICO
Arquivada/ExtintaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI0302812Tipo
Patente de Invenção
Depósito
08/08/2003
Publicação
03/05/2005
Andamento no INPI
- Depósito08/08/03
- Publicação03/05/05
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 12/04/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Nippon Shokubai CO., LTD
JP
Inventores
H. H. (pessoa física)
JP
M. T. (pessoa física)
JP
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2002-231449 · 08/08/2002
Resumo técnico
"MÉTODO PARA PRODUÇÃO DE ÁCIDO ACRÍLICO". É apresentado um método que produz ácido acrílico com um rendimento elevado quando mantendo as condições para purificação de ácido acrílico em faixas constantes e impedindo que o ácido acrílico polimerize. Ao usar um reator que tem uma primeira zona de reação e uma segunda zona de reação formadas por diferentes tubos de reação, propileno com concentração ajustada na faixa de 7 - 15 % em volume e água com concentração ajustada na faixa de O - 10% em volume, são introduzidos naquelas para obter deste modo um gás que contém ácido acrílico. Em seguida o gás é introduzido em uma coluna de absorção de ácido acrílico para ajustar a concentração de água na faixa de 1 - 45 % em peso, impedindo deste modo polimerização.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente a 6º anuidade.
23/02/2010
RPI 2042
Publicação do pedido de patente
#3.1
03/05/2005
RPI 1791
6.7
Baseado no art. 216 § 1º da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.
09/02/2005
RPI 1779
Pedido de patente depositado
#2.1
14/10/2003
RPI 1710
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