Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2038 de 26/01/2010.
10/05/2011
RPI 2105
Dados do pedido
Número
PI0301729Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 10/05/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Invensys Building Systems, Inc.
US
Inventores
B. D. (pessoa física)
US
D. M. (pessoa física)
US
I. E. (pessoa física)
US
J. S. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
10/184,245 · 28/06/2002
Resumo técnico
"VÁLVULA ESFÉRICA". Uma válvula esférica de modulação precisa para controle do fluxo de um fluido desde zero até um velocidade de fluxo máxima. O plugue de válvula da válvula esférica inclui, pelo menos, um canal de modulação de fluxo em recesso a partir da superfície externa do plugue de válvula. A, superfície externa do plugue de válvula prende um membro de vedação posicionado ao longo da superfície interna da porta de válvula. O membro de vedação proporciona uma vedação estanque a fluidos entre a superfície externa do plugue de válvula e a porta de Válvula. O canal de modulação de fluxo fica em recesso a partir da superfície externa do plugue de válvula, a partir de um extremo de fluxo mínimo até um extremo de fluxo máximo. A área radialmente em recesso do canal de modulação de fluxo aumenta desde o extremo de fluxo mínimo até o extremo de fluxo máximo, de tal forma que, ã medida que o plugue de válvula se move passando o membro de vedação estacionário, é criada uma velocidade de fluxo aumentada através da porta de válvula.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2038 de 26/01/2010.
10/05/2011
RPI 2105
#8.6
referente as 5ª e 6ª anuidades
26/01/2010
RPI 2038
Baseado no art. 216 § 1º da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.
24/08/2004
RPI 1755
#3.1
17/08/2004
RPI 1754
#2.1
19/08/2003
RPI 1702
Monitoramento de patentes
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