Dados do pedido
Número
PI0300170Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 24/01/2012 e depois extinta em 15/03/2022. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 15/03/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Nippon Shokubai Co., Ltd.
JP
Inventores
K. I. (pessoa física)
JP
S. N. (pessoa física)
JP
Y. M. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2002-20866 · 30/01/2002
Resumo técnico
"PROCESSO PARA TRATAMENTO DE RESÍDUOS DOS PROCESSOS DE PRODUÇÃO DE ÁCIDO ACRÍLICO E ÁCIDO POLIACRÍLICO". É revelado um processo para tratamento de resíduos descarregados de um processo de produção de ácido acrílico e um processo de produção de ácido poliacrílico consecutivo, no qual pelo menos um resíduo selecionado do grupo consistindo em óleo residual, água residual e gás residual do processo de produção de ácido acrílico e água residual e/ou gás residual do processo de produção de ácido poliacrílico são queimados simultaneamente.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2655 de 23-11-2021 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
15/03/2022
RPI 2671
#21.6
Referente à 19ª anuidade.
23/11/2021
RPI 2655
#16.1
24/01/2012
RPI 2142
#9.1
05/07/2011
RPI 2113
#6.1
13/07/2010
RPI 2062
#7.1
22/12/2009
RPI 2033
#3.1
09/09/2003
RPI 1705
#2.1
18/03/2003
RPI 1680
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