Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2108 de 31/05/2011.
16/11/2011
RPI 2132
Dados do pedido
Número
PI0215688Tipo
Depósito
Publicação
PCT
FR2002001589 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 16/11/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Eisenmann France Sarl
FR
Inventores
F. D. (pessoa física)
FR
J. R. (pessoa física)
FR
Classificação IPC
Resumo técnico
"PROCESSO DE REGULAGEM DA VAZÃO DE PÓ EM UM DISPOSITIVO DE FORNECIMENTO DE UMA VAZÃO DE PÓ TRANSPORTADO POR UM FLUXO DE AR E DISPOSITIVO DE INJEÇÃO E DE TRANSPORTE DE PÓ". A invenção se refere à regulagem da vazão de pó em um dispositivo com injetor (2) que aspira o pó (3) de um recipiente (4) por efeito Venturi, o injetor (2) recebendo em sua entrada uma vazão de ar de injeção (Dad) e na direção de sua saída uma vazão de ar de diluição (Dad). Duas eletroválvulas proporcionais (12, 13) são colocadas respectivamente na admissão (7) de ar de injeção e na admissão (8) de ar de diluição. Essas eletroválvulas (12, 13) são comandadas por um módulo de regulagem (11) que recebe um valor de referência de vazão de pó (Dp) e que determina as vazões de ar de injeção (Dp) e de ar de diluição (Dad) levando para isso em consideração coeficientes memorizados (A, B) e uma vazão de ar total mínima (Dam) a respeitar, com base na fórmula: Dp = A.Dai - B.Dad. A invenção se aplica para a alimentação de um aparelho (10) de projeção de tinta ou outro produto de revestimento em pó.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2108 de 31/05/2011.
16/11/2011
RPI 2132
#8.6
referente a(s) 6ª,7ª,8ª e 9ª anuidade(s).
31/05/2011
RPI 2108
#1.3
01/02/2005
RPI 1778
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.