Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 27/10/2025
28/04/2026
RPI 2886
Dados do pedido
Número
PI0212785Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2002010767 Carta-patente expirada em 28/04/2026: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 28/04/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
K. C. (pessoa física)
JP
N. C. (pessoa física)
JP
NIPPON STEEL & SUMITOMO METAL CORPORATION
JP
Inventores
J. K. (pessoa física)
JP
K. G. (pessoa física)
JP
K. K. (pessoa física)
JP
N. S. (pessoa física)
JP
T. I. (pessoa física)
JP
Y. Y. (pessoa física)
JP
Y. F. (pessoa física)
JP
Y. N. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2001-319941 · 17/10/2001
Resumo técnico
"MÉTODO DE APLICAR UM MATERIAL REFRATÁRIO MONOLÍTICO A QUALQUER UM DENTRE UM RECIPIENTE PARA METAIS EM FUSÃO, UM APARELHO DE PROCESSAMENTO PARA METAIS EM FUSÃO E UM FORNO A ALTA TEMPERATURA, E, MATERIAL REFRATÁRIO MONOLÍTICO". São divulgados um método de aplicação com excelente aplicabilidade de um refratário monolítico a um recipiente de metal em fusão, um aparelho de processamento de metal, ou um forno de alta temperatura e na vida do corpo aplicado, comparado com métodos de jateamento convencionais, e um refratário monolítico. A aplicação de água é usada é feita de antemão a um pó refratário ultrafino de sílica volátil e/ou alumina calcinada armazenada em uma tremonha e a mistura é amassada. Um refratário monolítico é composto de um dispersante e um agregado refratário que contém 1-30% em massa do pó refratário ultrafino misturado com a água de adição. O refratário monolítico composto é alimentado a uma parte abaixo da tremonha, enquanto se adiciona um agente acelerador de pega, e projetado centrifugamente. Uma vez que o refratário monolítico é alimentado na parte abaixo da tremonha, a fluidez conferida ao refratário monolítico pode ser de um baixo grau. Portanto, a quantidade de água para aplicação pode ser reduzida, e um local de aplicação pode ser facilitado projetando-se o refratário monolítico com ângulo em uma faixa predeterminada.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 27/10/2025
28/04/2026
RPI 2886
#25.4
22/10/2019
RPI 2546
#16.1
27/10/2015
RPI 2338
#25.1
27/10/2015
RPI 2338
#25.7
13/10/2015
RPI 2336
#25.4
29/09/2015
RPI 2334
#9.1
04/08/2015
RPI 2326
#6.1
16/04/2013
RPI 2206
#7.1
24/07/2012
RPI 2168
#1.3
09/01/2007
RPI 1879
Comprove a eleição do Brasil apresentando cópia do IPEA/409, ou do IPEA/408, ou do IPEA/402, ou do IPEA/416 conforme item 11 do AN 128.
24/10/2006
RPI 1868
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