Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.
19/07/2011
RPI 2115
Dados do pedido
Número
PI0211639Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2002024716 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 19/07/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Elisha Holding LLC
US
Inventores
B. P. (pessoa física)
US
B. F. (pessoa física)
US
C. B. (pessoa física)
US
D. S. (pessoa física)
US
R. H. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/310,007 · 03/08/2001
US
60/381,024 · 16/05/2002
Resumo técnico
"MÉTODO SEM ELETRICIDADE PARA TRATAMENTO DE UM SUBSTRATO, MEIO AQUOSO PARA USO EM UM PROCESSO SEM ELETRICIDADE PARA TRATAMENTO DE UMA SUPERFÍCIE CONDUTORA E ARTIGO COMPREENDENDO UM SUBSTRATO CONDUTOR DE ELETRICIDADE". A invenção se refere a um processo para formação de um depósito sobre a superfície de uma superfície metálica ou condutora. O processo emprega um processo sem eletricidade para depositar um silicato contendo revestimento ou filem sobre uma superfície metálica ou condutora.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.
19/07/2011
RPI 2115
#8.6
Referente a 6ª e 7ª anuidades.
23/02/2010
RPI 2042
#1.3
28/06/2005
RPI 1799
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