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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO PARA ELETRODEPOSIÇÃO DE ALUMÍNIO E OU LIGAS DE ALUMÍNIO A PARTIR DE ELETRÓLITOS ORGANOMETÁLICOS

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2002008329

Dados do pedido

Número

PI0211467

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

26/07/2002

Publicação

17/08/2004

PCT

EP2002008329

Andamento no INPI

  1. Depósito26/07/02
  2. Publicação17/08/04
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 26/07/2002, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/11/2007. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Aluminal Oberflächentechnik GMBH & CO. KG

DE

Inventores

H. V. (pessoa física)

NL

J. H. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Prioridades unionistas

EP

01118392.8 · 28/07/2001

Resumo técnico

"DISPOSITIVO PARA ELETRODEPOSIÇÃO DE ALUMÍNIO E/OU LIGAS DE ALUMÍNIO A PARTIR DE ELETRÓLITOS ORGANOMETÁLICOS". Um dispositivo para eletrodeposição de alumínio e/ou ligas de alumínio a partir de eletrólitos organometálicos que contêm complexos de alquilalumínio em materiais a ser revestidos, o dito dispositivo consistindo de uma armação de suporte com um descanso e mancais de transporte, pelo menos um tambor de deposição, e um ou mais braços de suporte para o tambor de deposição, caracterizado pelo fato de que a unidade de acionamento (3) fica arranjada em um alojamento hermético a gás encapsulado, o tambor de deposição (13) tem um tubo interno perfurado (15) arranjado ao longo do seu eixo geométrico longitudinal e abeto na sua lateral, de maneira tal que, durante a colocação do dispositivo em um recipiente de eletrólito, as aberturas laterais fiquem arranjadas diretamente opostas à alimentação de eletrólito no recipiente de eletrólito, o tambor de deposição (13) consiste de um material que é estável tanto em eletrólitos aquosos como organometálicos a temperaturas de até 110 C.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

20/11/2007

RPI 1924

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

06/02/2007

RPI 1883

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

17/08/2004

RPI 1754

Monitoramento de patentes

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