Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 22/07/2022
20/09/2022
RPI 2698
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Dado oficial do INPI
PROCESSO DE ELABORAÇÃO DE SILÍCIO DE PUREZA MÉDIA DESTINADO A SERVIR DE MATÉRIA-PRIMA NA PRODUÇÃO DO SILÍCIO DE QUALIDADE FOTOVOLTAICA OU ELETRÔNICA.
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · FR2002002603
Dados do pedido
Número
PI0211195Tipo
Patente de Invenção
Depósito
22/07/2002
Publicação
10/08/2004
PCT
FR2002002603 Andamento no INPI
- Depósito22/07/02
- Publicação10/08/04
- Exame
- Deferimento27/10/09
- Concessão10/08/10
- Expirado20/09/22
Carta-patente expirada em 20/09/2022: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 20/09/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Ferropem
FR
Invensil
FR
Inventores
G. B. (pessoa física)
FR
Y. C. (pessoa física)
FR
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
FR
01 09788 · 23/07/2001
Resumo técnico
"SILÍCIO METALÚRGICO DE PUREZA MÉDIA E PROCESSO DE ELABORAÇÃO". A invenção refere-se a um processo de fabricação de um silício de pureza média, compreendendo: - a elaboração por redução carbotérmica da sílica no forno elétrico com arco submerso, de um silício de baixo teor em boro; - a afinação do silício líquido ao oxigênio ou ao cloro; - o tratamento do silício afinado sob pressão reduzida de 10 a 100 Pa com injeção de gás neutro; - uma solidificação segregada. Ela tem igualmente por objeto um silício de pureza média destinado a servir de matéria-prima para a fabricação de silício de qualidade eletrônica ou fotovoltáica, e apresentando (em frações mássicas): - um total de impurezas compreendido entre 100 e 400 ppm, do qual um teor em elementos metálicos compreendido entre 30 e 300 ppm; - um teor em boro de 1 a 10 ppm; - uma relação entre teor em fósforo e em boro compreendido entre 0,5 e 1,5.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
24.5
Referente ao despacho 24.3 da RPI 2070 de 08/09/2010.
19/10/2010
RPI 2076
24.3
Referente a 8ª anuidade.
08/09/2010
RPI 2070
Concessão da patente
#16.1
10/08/2010
RPI 2066
Deferimento
#9.1
27/10/2009
RPI 2025
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
14/04/2009
RPI 1997
Transferência deferida
#25.1
Transferido de: Invensil
08/04/2008
RPI 1944
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
10/08/2004
RPI 1753
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