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Dado oficial do INPI

DIODOS SEMICONDUTORES COM EFEITO DE CAMPO DE SILÍCIO ÓXIDO METÁLICO VERTICAL

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2002014848

Dados do pedido

Número

PI0209916

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

08/05/2002

Publicação

31/08/2004

PCT

US2002014848

Andamento no INPI

  1. Depósito08/05/02
  2. Publicação31/08/04
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 09/03/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Integrated Discrete Devices, LLC

US

Vram Technologies, LLC

US

Inventores

R. M. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

09/864,436 · 23/05/2001

Resumo técnico

"DIODOS SEMICONDUTORES COM EFEITO DE CAMPO DE SILÍCIO ÓXIDO METÁLICO VERTICAL". A presente invenção inclui métodos e aparelhos conforme descritos nas reivindicações. Sucintamente, são apresentados diodos semicondutores tendo uma baixa queda de tensão de condução no sentido dianteiro, uma baixa corrente de fuga no sentido reverso, uma alta capacidade de tensão e capacidade de energia de avalanche, apropriada para aplicação não só em circuitos integrados como também em dispositivos discretos. Os diodos semicondutores são dispositivos de efeito de campo de metal-óxido semicondutores cilíndricos verticais configurados como diodo tendo um terminal diodo como a conexão comum entre as portas e drenos dos dispositivos de efeito de campo de metal-óxido semicondutores cilíndricos verticais, e um terminal diodo como a conexão comum com as fontes dos dispositivos de efeito de campo de metal-óxido semicondutores cilíndricos verticais. É apresentado o método de fabricação dos dispositivos de efeito de campo de metal-óxido semicondutores cilíndricos verticais. Várias terminações de dispositivo podem ser empregadas para completar os dispositivos diodo. Várias modalidades são expostas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2602 de 17-11-2020 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

09/03/2021

RPI 2618

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 11ª, 12ª, 13ª, 14ª, 15ª, 16ª, 17ª e 18ª anuidades.

17/11/2020

RPI 2602

8.9

Anulada a publicação código 8.12 na RPI nº 2258 de 15/04/2014 por ter sido indevida.

10/11/2020

RPI 2601

8.12

Referente ao não recolhimento das 11ª e 12ª anuidades.

15/04/2014

RPI 2258

Alteração de nome deferida

#25.4

Alterado de: VRAM Technologies, LLC

07/12/2010

RPI 2083

Alteração de nome em exigência

#25.6

A fim de atender ao ped. de alteração de nome requerida atraves da pet nº 20090092721- RJ de 01.10.2009 , queira apresentar a legalização consular .

27/04/2010

RPI 2051

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

31/08/2004

RPI 1756

Monitoramento de patentes

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