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Dado oficial do INPI

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA DEPOSITAR UMA CAMADA DE SILÍCIO, PELO MENOS PARCIALMENTE CRISTALINA, EM UM SUBSTRATO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · NL2002000244

Dados do pedido

Número

PI0208601

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

12/04/2002

Publicação

23/03/2004

PCT

NL2002000244

Andamento no INPI

  1. Depósito12/04/02
  2. Publicação23/03/04
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 18/02/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

T. E. (pessoa física)

NL

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Inventores

A. S. (pessoa física)

NL

D. S. (pessoa física)

NL

E. H. (pessoa física)

NL

M. S. (pessoa física)

NL

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

NL

1017849 · 16/04/2001

Resumo técnico

"PROCESSO E DISPOSITIVO PARA DEPOSITAR UMA CAMADA DE SILÍCIO, PELO MENOS PARCIALMENTE CRISTALINA, EM UM SUBSTRATO". Em um processo e dispositivo para depositar uma camada de silício, pelo menos parcialmente cristalina, é gerado um plasma e um substrato (24) é exposto, sob a influência do plasma, a um fluido fonte contendo silício, para deposição nele de silicio. Uma queda de pressão é aplicada entre um local (12), onde o fluido fonte é suprido, e o substrato (24). Além do fluido fonte, um fluido auxiliar é também injetado, que é capaz de atacar os átomos de silício não-cristalinos. O substrato (24) é exposto tanto ao fluido fonte como ao fluido auxiliar.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2224 de 20/08/2013.

18/02/2014

RPI 2250

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 11ª anuidade

20/08/2013

RPI 2224

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

29/03/2011

RPI 2099

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

27/07/2010

RPI 2064

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

05/01/2010

RPI 2035

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

23/03/2004

RPI 1733

Monitoramento de patentes

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