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Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA CONTROLE DE FORMAÇÃO DE INCRUSTAÇÃO E DEPOSIÇÃO EM SISTEMAS AQUOSOS.

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2002006370

Dados do pedido

Número

PI0208127

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

01/03/2002

Publicação

23/03/2004

PCT

US2002006370

Andamento no INPI

  1. Depósito01/03/02
  2. Publicação23/03/04
  3. Exame
  4. Deferimento17/07/12
  5. Concessão27/11/12
  6. Expirado27/12/22

Carta-patente expirada em 27/12/2022: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 27/12/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

GE Betz, Inc.

US

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Inventores

F. C. (pessoa física)

US

J. K. (pessoa física)

US

K. B. (pessoa física)

US

N. K. (pessoa física)

US

R. M. (pessoa física)

US

S. K. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

09/806,679 · 15/03/2001

US

09/878,646 · 11/06/2001

Resumo técnico

"MÉTODO PARA CONTROLE DE FORMAÇÃO DE INCRUSTAÇÃO E DEPOSIÇÃO EM SISTEMAS AQUOSOS". A presente invenção refere-se a novos polímeros solúveis em água ou dispersáveis em água úteis para inibir a formação e deposição de porções formadoras de incrustação em sistemas aquosos que consistem em unidades repetitivas caracterizadas pela fórmula I em que E é a unidade repetitiva que permanece após a polimerização de um composto etilenicamente insaturado; preferencialmente um ácido carboxílico, ácido sulfônico, ácido fosfônico ou sua forma de amida ou suas misturas. R~ 1~ é hidrogênio ou (C~ 1~-C~ 4~)alquila reduzida, G é -CH~ 2~- ou -CHCH~ 3~-; R~ 2~ é -(-CH~ 2~-CH~ 2~-O-)-n ou -(-CH~ 2~-CHCH~ 3~-O-)-m onde n e m situam-se na faixa de cerca de 1 a 100, preferencialmente n é maior do que 10 e m situa-se na faixa de cerca de 1 a 20. X é um radical aniônico selecionado do grupo constituído em SO~ 3~, PO~ 3~ ou COO; Z é H ou hidrogênios ou qualquer porção catiônica solúvel em água que contrabalance a valencia do radical aniônico X, incluindo mas não-limitado a Na, K, Ca ou NH~ 4~. F, quando presente, é uma unidade repetitiva tendo a estrutura da Fórmula II: na qual X e Z são os mesmos que na Fórmula I. R4 é H ou (C~ 1~-C~ 4~)alquila reduzida. R~ 5~ é alquila ou alquileno substituído por hidróxi tendo cerca de 1 a 6 átomos de carbono.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

PATENTE EXTINTA EM 27.11.2022

27/12/2022

RPI 2712

Concessão da patente

#16.1

27/11/2012

RPI 2186

Deferimento

#9.1

17/07/2012

RPI 2167

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

07/02/2012

RPI 2144

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

14/06/2011

RPI 2110

Anulação de publicação (variante)

#15.22

Devolução de Prazo Concedida - Reconhecido o obstáculo administrativo e devolvido o prazo de 81 dias, nos termos do artigo 221 parágrafo 2º da LPI e da resolução 116/04.

06/04/2010

RPI 2048

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

13/10/2009

RPI 2023

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Referente à RPI nº 1733 de 23/03/2004, quanto ao ítem 72

29/06/2004

RPI 1747

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

23/03/2004

RPI 1733

Monitoramento de patentes

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