Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2029 de 24/11/2009.
09/03/2011
RPI 2096
Dados do pedido
Número
PI0206975Tipo
Depósito
Publicação
PCT
CA2002000122 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 09/03/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Northern Research Technologies INC.
CA
Inventores
D. S. (pessoa física)
CA
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/773,506 · 02/02/2001
Resumo técnico
"APARELHO PARA O TRATAMENTO DE ÁGUA COM OZÔNIO". Um aparelho para o tratamento de água com ozônio inclui um primeiro conduto e uma passagem para a admissão de ozônio no primeiro conduto. Há um segundo conduto, que tem um topo e uma entrada conectada ao primeiro conduto e uma saída. Há um terceiro conduto que tem um topo e uma porção vertical, que se estende para baixo adjacente à saída do segundo conduto. O terceiro conduto tem um fundo com uma saída baixo da saída do segundo conduto. A saída do segundo conduto não está a mais de um terço da distância a partir do topo do terceiro conduto até a saída do terceiro conduto. Há uma passagem que conecta o terceiro conduto ao primeiro conduto acima da saída do segundo conduto. A passagem é dimensionada para permitir um fluxo reduzido de água através do terceiro conduto, se comparado com o fluxo através do segundo conduto, e provê meios para um gás descarregado a partir da saída do segundo conduto subir através da porção vertical do terceiro conduto, para aumentar a dissolução do gás na água. Há uma bomba para o bombeamento de água com força suficiente a partir da saída do segundo conduto, de modo que um fluxo de água e gás não dissolvido a partir dali atinja um ponto pelo menos à metade da distância a partir da saída do segundo conduto até a saída do terceiro conduto.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2029 de 24/11/2009.
09/03/2011
RPI 2096
#8.6
Referente a 7ª e 8ª anuidade(s).
24/11/2009
RPI 2029
#1.3
12/04/2005
RPI 1788
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Monitoramento de patentes
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