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Dado oficial do INPI

Pó de monóxido de nióbio, corpo sinterizado de monóxido de nióbio, capacitor usando o corpo sinterizado, método de produção dos mesmos bem como circuito e instrumento eletrônico

ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2002004646

Dados do pedido

Número

PI0205343

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

14/05/2002

Publicação

24/06/2003

PCT

JP2002004646

Andamento no INPI

  1. Depósito14/05/02
  2. Publicação24/06/03
  3. Exame
  4. Deferimento06/12/16
  5. Concessão31/01/17
  6. Extinto08/09/20

Patente concedida em 31/01/2017 e depois extinta em 08/09/2020. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 08/09/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

S. K. (pessoa física)

JP

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Inventores

K. O. (pessoa física)

JP

K. N. (pessoa física)

JP

K. W. (pessoa física)

JP

T. K. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2001-145571 · 15/05/2001

JP

2001-340318 · 06/11/2001

Resumo técnico

"PÓ DE MONÓXIDO DE NIÓBIO, CORPO SINTERIZADO DE MONÓXIDO DE NIÓBIO E CAPACITOR USANDO O CORPO SINTERIZADO". A presente invenção refere-se a (1) pó de monóxido de nióbio para um capacitor representado pela fórmula: NbO~ x~ (x = 0,8 a 1,2) e, opcionalmente, contendo outros elementos em uma quantidade de 50 a 200.000 ppm, tendo uma densidade de vazamento de 0,5 a 2,5 g/ml, um tamanho médio de partícula de 10 a 1000 m, um ângulo de repouso de 10 a 60 , a área superficial específica de BET de 0,5 a 40 m^ 2^/g e uma pluralidade de topos de pico de diâmetro de poro na distribuição de poro, e um método de produção do mesmo; (2) um corpo sinterizado de monóxido de nióbio, o qual é obtido pela sinterização do pó de monóxido de nióbio acima, e tendo uma pluralidade de topos de pico de diâmetro de poro em uma faixa de 0,01 pm a 500 m, preferencialmente, os topos de pico de dois picos dentre a pluralidade de topos de pico de diâmetro de poro tendo uma intensidade relativa mais alta estando presentes na faixa de 0,2 a 0,7 pm e na faixa de 0,7 a 3 m, respectivamente, e um método de produção do mesmo; (3) um capacitor que usa o corpo sinterizado acima e um método de produção do mesmo; e (4) um circuito eletrônico e um dispositivo eletrônico que usam o capacitor acima.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Referente ao despacho 21.6 publicado na RPI 2566 de 2020-03-10

08/09/2020

RPI 2592

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 18ª anuidade.

10/03/2020

RPI 2566

Concessão da patente

#16.1

31/01/2017

RPI 2404

Deferimento

#9.1

06/12/2016

RPI 2396

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

27/09/2016

RPI 2386

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

24/06/2003

RPI 1694

Monitoramento de patentes

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