Concessão da patente
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 09/07/2019, observadas as condições legais
09/07/2019
RPI 2531
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Dado oficial do INPI
MÉTODO PARA PRODUZIR UMA ESTRUTURA SEMICONDUTORA DE CAVIDADE RESSONANTE À BASE DE NITRETO
ConcedidaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI0205196Tipo
Patente de Invenção
Depósito
19/12/2002
Publicação
29/06/2004
Andamento no INPI
- Depósito19/12/02
- Publicação29/06/04
- Exame
- Deferimento30/04/19
- Concessão09/07/19
- Em vigor19/12/22
Patente concedida em 09/07/2019 e em vigor até 19/12/2022. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:19/12/2022
Última movimentação publicada pelo INPI: 09/07/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
X. C. (pessoa física)
US
Inventores
C. C. (pessoa física)
US
D. B. (pessoa física)
US
M. K. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
10/024,236 · 21/12/2001
Resumo técnico
"PROCESSO DE FABRICAÇÃO DE ESTRUTURAS SEMICONDUTORAS DE GaN USANDO DESALOJAMENTO EPITAXIAL ASSISTIDO POR LASER". Um processo é proporcionado para fabricar uma estrutura semi-condutora de cavidade ressonante à base de nitreto, com um primeiro refletor Bragg distribuído sobre um substrato de safira, um segundo substrato ligado ao primeiro refletor Bragg distribuído, o substrato de safira removido por desalojamento epitaxial assistido por laser, e fabricação de um segundo refletor Bragg sobre a estrutura semicondutora oposta ao primeiro refletor Bragg distribuído. A estrutura semicondutora de cavidade ressonante à base de nitreto pode ser um VCSEL, LED ou fotodetector, ou uma combinação dos ditos dispositivos.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
100
Recorrente: O depositante. @ Despacho: Recurso conhecido e provido. Reformada a decisão recorrida e deferido o pedido. Desta data corre o prazo de 60 (sessenta) dias para o pagamento da retribuição para expedição da Carta-Patente. [100]
30/04/2019
RPI 2521
121
Recorrente: O depositante.@Despacho: Cumpra as exigências do parecer técnico no prazo de 60(sessenta) dias desta publicação. [121]
04/12/2018
RPI 2500
Petição de recurso
#12.2
02/02/2016
RPI 2352
Indeferimento
#9.2
Indefiro o pedido de acordo com o Art .8º combinado com Art. 13 da LPI
08/09/2015
RPI 2331
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
14/04/2015
RPI 2310
Retificação de publicação
#3.8
Referente à RPI Nº 1747 de 29/06/2004 quanto ao ítem (72).
23/11/2004
RPI 1768
Publicação do pedido de patente
#3.1
29/06/2004
RPI 1747
Pedido de patente depositado
#2.1
04/02/2003
RPI 1674
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