Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2029 de 24/11/2009.
09/03/2011
RPI 2096
Dados do pedido
Número
PI0204587Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 09/03/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
C. M. (pessoa física)
SP, BR
Inventores
S. T. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
"PROCESSO DE PRODUÇÃO DE PÓ DE NIÓBIO E/OU DE TÂNTALO DE ELEVADA ÁREA SUPERFICIAL". A presente invenção refere-se a um processo de produção de pó de nióbio e/ou de tântalo de elevada pureza, elevada superfície específica, teores de oxigênio e nitrogênio controlados, e morfologia apropriada para ser usada na fabricação de capacitores, caracterizado por uma única etapa de redução de uma camada controlada de óxido de nióbio e/ou de tântalo (Nb~ x~O~ Y~, e/ou Ta~ x~,O~ y~, onde x = 1 a 2 e y = 1 a 5) propositalmente formada sobre partículas de nióbio e/ou de tântalo metálico e/ou seus hidretos de pureza adequada, por metais e/ou hidretos de metais alcalinos ou alcalino terrosos em um banho de sais fundidos seguido de uma etapa de dissolução do sal em uma solução aquosa para recuperação do pó de nióbio e/ou de tântalo. Estas partículas produzidas com o presente processo são de tamanho reduzido, têm elevada área superficial e morfologia esponjosa, sendo adequadas para a produção de capacitores.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2029 de 24/11/2009.
09/03/2011
RPI 2096
#8.6
Referente a 6ª e 7ª anuidade(s).
24/11/2009
RPI 2029
#7.1
03/03/2009
RPI 1991
#3.1
29/06/2004
RPI 1747
#2.1
17/12/2002
RPI 1667
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