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Dado oficial do INPI

CÉLULA ELETROLÍTICA VERTICAL COM DIAFRAGMA PARA O ELETROREFINO DE LIGAS DE ALUMÍNIO EM BANHO DE CLORETOS FUNDIDOS PARA PRODUÇÃO DE ALUMÍNIO DE QUALIDADE PRIMÁRIA

IndeferidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0202334

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

19/06/2002

Publicação

23/05/2006

Andamento no INPI

  1. Depósito19/06/02
  2. Publicação23/05/06
  3. Exame
  4. Indeferido01/11/11
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido em 01/11/2011 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 01/11/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

C. N. (pessoa física)

RJ, BR

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Inventores

M. L. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Resumo técnico

"CÉLULA ELETROLÍTICA VERTICAL COM DIAFRAGMA PARA O ELETROREFINO DE LIGAS DE ALUMÍNIO EM BANHO DE CLORETOS FUNDIDOS PARA PRODUÇÃO DE ALUMÍNIO DE QUALIDADE PRIMÁRIA". A presente invenção refere-se a uma célula eletrolítica vertical compartimentada de grafite de baixa porosidade e a um diafragma delgado poroso de fibra de alumina (99,8 %) para o processo de refino eletroquímico de ligas e/ou sucatas de alumínio, com até 12 % em massa de ligantes como Cu, Si, Fe e Mn, em alumínio de qualidade primária, com pureza nominal de 99,7 % em massa de alumínio, obtendo-se um consumo energético menor que 5 kWh/kg A1, correspondente a um potencial de célula entre 0,8 e 1.3 V a densidades de corrente entre 0.1 e 0.3 A/cm^ 2^. Utiliza-se como eletrólito uma mistura de cloretos fundidos contendo de 15 a 30 % de AlCl~ 3~. Somente eletrólitos a base de cloretos contendo AlCl~ 3~, oferecem a possibilidade de se utilizar diafragmas porosos de alumina, de espaçamento mínimo (3 mm), a fim de se reduzir a resistência ôhmica entre os eletrodos (entre 1 e 4 cm^ 2^), já que a alumina dissolve-se em concentrações insignificantes em cloretos fundidos, ao contrário do caso de fluoretos (estado da arte). A célula eletrolítica possui um volume útil de 1000 cm^ 3^; uma área eletródica efetiva de 300 cm^ 2^ e possibilita operação semicontínua a 700 C, sob atmosfera inerte.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Indeferimento mantido em recurso

#9.2.4

MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.

01/11/2011

RPI 2130

Indeferimento

#9.2

24/05/2011

RPI 2107

Anulação de publicação (variante)

#15.22

Reconhecido o obstáculo administrativo e devolvido o prazo de 28 dias, nos termos do artigo 221 parágrafo 2º da LPI e da resolução 116/04.

08/02/2011

RPI 2092

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

03/11/2010

RPI 2078

Publicação do pedido de patente

#3.1

23/05/2006

RPI 1846

11.16

Referência: Petição DEINPI/RJ 020050079034 de 09.08.2005

11/04/2006

RPI 1840

Arquivamento do pedido - Art. 216 §2° da LPI

#11.6

19/04/2005

RPI 1789

6.7

Baseado no art. 216 § 1º da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.

01/06/2004

RPI 1743

Pedido de patente depositado

#2.1

16/07/2002

RPI 1645

Monitoramento de patentes

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