Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
01/11/2011
RPI 2130
Dados do pedido
Número
PI0202334Tipo
Depósito
Publicação
Pedido indeferido em 01/11/2011 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 01/11/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
C. N. (pessoa física)
RJ, BR
Inventores
M. L. (pessoa física)
BR
Resumo técnico
"CÉLULA ELETROLÍTICA VERTICAL COM DIAFRAGMA PARA O ELETROREFINO DE LIGAS DE ALUMÍNIO EM BANHO DE CLORETOS FUNDIDOS PARA PRODUÇÃO DE ALUMÍNIO DE QUALIDADE PRIMÁRIA". A presente invenção refere-se a uma célula eletrolítica vertical compartimentada de grafite de baixa porosidade e a um diafragma delgado poroso de fibra de alumina (99,8 %) para o processo de refino eletroquímico de ligas e/ou sucatas de alumínio, com até 12 % em massa de ligantes como Cu, Si, Fe e Mn, em alumínio de qualidade primária, com pureza nominal de 99,7 % em massa de alumínio, obtendo-se um consumo energético menor que 5 kWh/kg A1, correspondente a um potencial de célula entre 0,8 e 1.3 V a densidades de corrente entre 0.1 e 0.3 A/cm^ 2^. Utiliza-se como eletrólito uma mistura de cloretos fundidos contendo de 15 a 30 % de AlCl~ 3~. Somente eletrólitos a base de cloretos contendo AlCl~ 3~, oferecem a possibilidade de se utilizar diafragmas porosos de alumina, de espaçamento mínimo (3 mm), a fim de se reduzir a resistência ôhmica entre os eletrodos (entre 1 e 4 cm^ 2^), já que a alumina dissolve-se em concentrações insignificantes em cloretos fundidos, ao contrário do caso de fluoretos (estado da arte). A célula eletrolítica possui um volume útil de 1000 cm^ 3^; uma área eletródica efetiva de 300 cm^ 2^ e possibilita operação semicontínua a 700 C, sob atmosfera inerte.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
01/11/2011
RPI 2130
#9.2
24/05/2011
RPI 2107
#15.22
Reconhecido o obstáculo administrativo e devolvido o prazo de 28 dias, nos termos do artigo 221 parágrafo 2º da LPI e da resolução 116/04.
08/02/2011
RPI 2092
#7.1
03/11/2010
RPI 2078
#3.1
23/05/2006
RPI 1846
Referência: Petição DEINPI/RJ 020050079034 de 09.08.2005
11/04/2006
RPI 1840
#11.6
19/04/2005
RPI 1789
Baseado no art. 216 § 1º da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.
01/06/2004
RPI 1743
#2.1
16/07/2002
RPI 1645
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