Carta-patente expirada
#21.1
Patente extinta em 09/04/2023
09/05/2023
RPI 2731
Dados do pedido
Número
PI0200467Tipo
Depósito
Publicação
Carta-patente expirada em 09/05/2023: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 09/05/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
D. C. (pessoa física)
JP
Inventores
S. M. (pessoa física)
JP
S. N. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2001-049017 · 23/02/2001
JP
2002-020568 · 29/01/2002
Resumo técnico
"MÉTODO DE TRATAMENTO QUÍMICO DE FOSFATO ELETROLÍTICO". O objetivo da presente invenção é fornecer um método de tratamento químico de fosfato eletrolítico capaz de melhorar a eficiência de reação sobre uma superfície metálica (interface) impedindo-se a reação na fase de solução de modo a impedir com segurança a formação de lama durante o tratamento contínuo. A presente invenção diz respeito a um método de formar uma película composta de um composto de fosfato e um metal sobre a superfície de um artigo a ser tratado realizando-se o tratamento eletrolítico em um artigo de material metálico a ser tratado em um banho de tratamento químico de fosfato contatando-se o dito material metálico tendo condutividade elétrica com o dito banho de tratamento químico de fosfato contendo íons fosfato e ácido fosfórico, íons nitrato, íons metálicos que formem um complexo com os íons fosfato no dito banho de tratamento químico de fosfato e íons metálicos para os quais o potencial de equilíbrio de dissolução-precipitação no qual os íons dissolvidos no dito banho de tratamento químico de fosfato são reduzidos e precipitados como metal é igual ou maior do que -830 mV, que é o potencial de decomposição da reação catódica do solvente na forma de água quando indicado como o potencial de eletrodo padrão de hidrogênio e é substancialmente isento de íons metálicos outros que não aqueles que são um componente da película; em que, o ORP (potencial de oxidação-redução) do dito banho de tratamento químico de fosfato (indicado como o potencial relativo a um eletrodo de hidrogênio padrão) é mantido igual ou maior do que 700 mV.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#21.1
Patente extinta em 09/04/2023
09/05/2023
RPI 2731
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09/04/2002
RPI 1631
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