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Dado oficial do INPI

MÉTODO DE TRATAMENTO QUÍMICO DE FOSFATO ELETROLÍTICO.

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0200467

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

21/02/2002

Publicação

29/10/2002

Andamento no INPI

  1. Depósito21/02/02
  2. Publicação29/10/02
  3. Exame
  4. Deferimento26/02/13
  5. Concessão09/04/13
  6. Expirado09/05/23

Carta-patente expirada em 09/05/2023: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 09/05/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

D. C. (pessoa física)

JP

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Inventores

S. M. (pessoa física)

JP

S. N. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

2001-049017 · 23/02/2001

JP

2002-020568 · 29/01/2002

Resumo técnico

"MÉTODO DE TRATAMENTO QUÍMICO DE FOSFATO ELETROLÍTICO". O objetivo da presente invenção é fornecer um método de tratamento químico de fosfato eletrolítico capaz de melhorar a eficiência de reação sobre uma superfície metálica (interface) impedindo-se a reação na fase de solução de modo a impedir com segurança a formação de lama durante o tratamento contínuo. A presente invenção diz respeito a um método de formar uma película composta de um composto de fosfato e um metal sobre a superfície de um artigo a ser tratado realizando-se o tratamento eletrolítico em um artigo de material metálico a ser tratado em um banho de tratamento químico de fosfato contatando-se o dito material metálico tendo condutividade elétrica com o dito banho de tratamento químico de fosfato contendo íons fosfato e ácido fosfórico, íons nitrato, íons metálicos que formem um complexo com os íons fosfato no dito banho de tratamento químico de fosfato e íons metálicos para os quais o potencial de equilíbrio de dissolução-precipitação no qual os íons dissolvidos no dito banho de tratamento químico de fosfato são reduzidos e precipitados como metal é igual ou maior do que -830 mV, que é o potencial de decomposição da reação catódica do solvente na forma de água quando indicado como o potencial de eletrodo padrão de hidrogênio e é substancialmente isento de íons metálicos outros que não aqueles que são um componente da película; em que, o ORP (potencial de oxidação-redução) do dito banho de tratamento químico de fosfato (indicado como o potencial relativo a um eletrodo de hidrogênio padrão) é mantido igual ou maior do que 700 mV.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

Patente extinta em 09/04/2023

09/05/2023

RPI 2731

Concessão da patente

#16.1

09/04/2013

RPI 2205

Deferimento

#9.1

26/02/2013

RPI 2199

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

25/09/2012

RPI 2177

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

19/07/2011

RPI 2115

Publicação do pedido de patente

#3.1

29/10/2002

RPI 1660

Pedido de patente depositado

#2.1

09/04/2002

RPI 1631

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