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Dado oficial do INPI

MÉTODO E SISTEMA PARA PRODUZIR ESTADOS DE POLARIZAÇÃO DUAL COM LARGURAS DE FEIXE DE RF CONTROLADAS

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2001005232

Dados do pedido

Número

PI0116898

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

16/02/2001

Publicação

24/01/2006

PCT

US2001005232

Andamento no INPI

  1. Depósito16/02/01
  2. Publicação24/01/06
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 16/11/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

EMS Technologies, Inc.

US

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Inventores

J. C. (pessoa física)

US

S. P. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

"MÉTODO E SISTEMA PARA PRODUZIR ESTADOS DE POLARIZAÇÃO DUAL COM LARGURAS DE FEIXE DE RF CONTROLADAS". Um sistema de antena pode gerar campos de radiação de RF tendo estados de polarização simultânea dual e tendo padrões de radiação substancialmente rotacionalmente simétricos. O sistema de antena gera padrões de radiação RF em que as larguras de feixe dos respectivos campos de RF para os respectivos elementos de radiação são substancialmente iguais e são relativamente grandes apesar do tamanho físico compacto do sistema de antena. O sistema de antena pode incluir um ou mais radiadores de reparo (patch) e um reparo não ressonante separado dos outros por um dielétrico de ar e por elementos espaçadores relativamente pequenos. Os radiadores de reparo e o reparo não ressonante podem ter formados pré-definidos para aumentar a discriminação de polarização. Os radiadores de reparo inferiores podem ser montados em uma placa de circuito impresso que pode incluir uma rede de alimentação RF e um plano terra que define uma pluralidade de sulcos simetricamente formatados. Os sulcos dentro do plano terra da placa de circuito impresso podem ser excitados por troncos que são parte da rede de alimentação da placa de circuito impresso. Os sulcos, por sua vez, podem estabelecer um modo magnético transversal de radiação RF em uma cavidade que é disposta adjacente ao plano terra da placa de circuito impresso e um plano terra do sistema de antena. A rede de alimentação da placa de circuito impressa pode ser alinhada com partes da cavidade tal que as partes da cavidade funcional como uma banheira de calor para absorver ou receber a energia térmica produzida pela rede de alimentação.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 da RPI 2021 de 29/09/2009.

16/11/2010

RPI 2080

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 7ª e 8ª anuidade(s).

29/09/2009

RPI 2021

8.8

Referente ao despacho publicado na RPI 1840 de 11/04/2006 por ter sido indevido.

16/05/2006

RPI 1845

8.5

Complementar a 3ª anuidade de acordo com a tabela vigente,cuja guia 300237345454.

11/04/2006

RPI 1840

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

24/01/2006

RPI 1829

Monitoramento de patentes

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