Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
29/06/2010
RPI 2060
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Dado oficial do INPI
FORNO DE CAMPO MAGNÉTICO E PROCESSO DE UTILIZAÇÃO DO MESMO PARA FABRICAÇÃO DE SUBSTRATOS SEMICONDUTORES
IndeferidaPatente de InvençãoPCT · US2001050541
Dados do pedido
Número
PI0116594Tipo
Patente de Invenção
Depósito
28/12/2001
Publicação
06/07/2004
PCT
US2001050541 Andamento no INPI
- Depósito28/12/01
- Publicação06/07/04
- Exame
- Indeferido29/06/10
- Concessão
- Em vigor
Pedido indeferido em 29/06/2010 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 29/06/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
E. C. (pessoa física)
JP
Ebara Solar, Inc.
US
Inventores
H. I. (pessoa física)
JP
H. G. (pessoa física)
US
K. M. (pessoa física)
JP
K. F. (pessoa física)
JP
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/750,935 · 29/12/2000
Resumo técnico
"FORNO DE CAMPO MAGNÉTICO E PROCESSO DE UTILIZAÇÃO DO MESMO PARA FABRICAÇÃO DE SUBSTRATOS SEMICONDUTORES". São providos um aparelho e processo para fabricação de um substrato semicondutor, tal como cristais de trama. O aparelho inclui uma câmara e um conjunto de hardware de desenvolvimento, alojados dentro da câmara. Um sistema de campo magnético produz um campo magnético dentro da câmara.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Indeferimento
#9.2
Indefiro o pedido de acordo com o(s) artigo(s) 8º da LPI.
02/02/2010
RPI 2039
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
21/07/2009
RPI 2011
Transferência deferida
#25.1
Transferido de: Ebara Solar, Inc.
18/09/2007
RPI 1915
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
06/07/2004
RPI 1748
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