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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE TRÊS ESTÁGIOS PARA RECUPERAR E PURIFICAR UM GÁS, E, SISTEMA DE TRÊS ESTÁGIOS PARA RECUPERAR E PURIFICAR UM GÁS

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2001043051

Dados do pedido

Número

PI0115862

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

09/11/2001

Publicação

30/12/2003

PCT

US2001043051

Andamento no INPI

  1. Depósito09/11/01
  2. Publicação30/12/03
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 18/08/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Praxair Technology , INC.

US

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Inventores

S. J. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

09/727475 · 04/12/2000

Resumo técnico

"PROCESSO DE TRÊS ESTÁGIOS PARA RECUPERAR E PURIFICAR UM GÁS, E, SISTEMA DE TRÊS ESTÁGIOS PARA RECUPERAR E PURIFICAR UM GÁS". Esta invenção refere-se a um processo de três estágios para recuperar e purificar um gás, tal como hélio contaminado de um processo de revestimento por pulverização a frio, e a um sistema para usar o processo de três estágios. As etapas incluem: a) introdução de um gás de uma câmara em uma aparelhagem de remoção de particulado para formar um gás livre de particulado, e reciclagem de uma primeira porção do gás livre de particulado para a câmara; b) passagem de uma segunda porção do gás livre de particulado em um primeiro compressor antes da passagem em uma membrana de purificação gasosa seletiva para formar um gás purificado e um gás de exaustão, e passagem do gás purificado na câmara para misturar com a primeira porção de gás livre de particulado; e c) passagem de uma terceira porção do gás livre de particulado em um separador de líquido para formar um gás livre de líquido, e reciclagem do gás livre de líquido de volta para a câmara.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

18/08/2009

RPI 2015

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

23/12/2008

RPI 1981

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

30/12/2003

RPI 1721

Monitoramento de patentes

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