Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 24.01.2022
14/06/2022
RPI 2684
Dados do pedido
Número
PI0115445Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2001010172 Carta-patente expirada em 14/06/2022: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/06/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Nippon Shokubai Co., Ltd.
JP
Inventores
H. U. (pessoa física)
JP
K. W. (pessoa física)
JP
Y. I. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2000-356481 · 22/11/2000
Resumo técnico
"COMPOSIÇÃO ABSORVEDORA DE ÁGUA, SEU PROCESSO DE PRODUÇÃO, ARTIGO ABSORVENTE, E ESTRUTURA ABSORVENTE" A presente invenção tem um objetivo de fornecer uma composição particulada absorvedora de água, um processo para sua produção, e um artigo absorvente que compreende esta composição particulada absorvedora de água, onde a composição particulada absorvedora de água causa pouca coloração de outros materiais e é ainda de alta segurança, e pode proporcionar excelente capacidade de desodorização e excelentes propriedades de absorção aos artigos absorventes tais como fraldas, no caso em que ela é combinada dentro de artigos absorventes. Como um meio de alcançar este objetivo, uma composição particulada absorvedora de água, de acordo com a presente invenção, caracteriza-se por compreender uma planta em pó e uma resina absorvente de água, onde uma parte da superfície, e/ou sua vizinhança, da resina absorvente de água é tratada superficialmente com um agente reticulante, e onde a composição particulada absorvedora de água apresenta um índice de remoção de odores repulsivos de não menos do que 180, onde o índice de remoção de odores repulsivos é representado pela seguinte equação: índice de remoção de odores repulsivos = 1,1 x relação da remoção de gás sulfídrico + 2,0 x relação de remoção de metil-mercaptana + 0,3 x relação de remoção de amoníaco.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 24.01.2022
14/06/2022
RPI 2684
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