Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
27/11/2007
RPI 1925
Dados do pedido
Número
PI0115060Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2001046188 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 31/10/2001, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/11/2007. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Q. I. (pessoa física)
US
Inventores
S. W. (pessoa física)
US
S. B. (pessoa física)
US
V. P. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/703,647 · 01/11/2000
Resumo técnico
"MÉTODO E EQUIPAMENTO PARA CONTROLAR ESTÁGIOS DE UM CIRCUITO DE MÚLTIPLOS ESTÁGIOS". Um mecanismo de controle que pode ser usado para controlar um para prover o nível requerido de desempenho, reduzindo concomitantemente o consumo de energia. O ADC é projetado com múltiplos estágios (isto é, loops ou seções) e propicia melhor desempenho (por exemplo, faixa dinâmica mais alta) a medida que mais estágios são habilitados. o mecanismo de controle habilita seletivamente um número suficiente de estágios para prover o desempenho requerido e desabilita os estágios restantes para economizar energia. O mecanismo de controle consegue isto por medir uma ou mais características (por exemplo, nível de sinal) do sinal de entrada ADC através de um ADC que é similar ao ADC na trajetória de sinal, comparando a(s) característica(s) medida(s) a níveis limites específicos e controlando os estágios de tal forma que sejam atingidos os objetivos desejados. Em uma implementação, o circuito de controle inclui um ou mais estágios de detectores, um circuito de condicionamento e um processador de sinal. o(s) estágio(s) detector(es) recebe(m) o sinal de entrada e provê(em) um sinal detectado. O circuito de condicionamento recebe o sinal detectado e provê amostras condicionadas. o processador de sinal recebe as amostras condicionadas e provê um sinal de controle que desabilita seletivamente zero ou mais estágios no ADC .
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
27/11/2007
RPI 1925
#11.1
20/03/2007
RPI 1889
#1.3
18/10/2005
RPI 1815
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