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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE COMPOSTOS DE BIS-BENZAZOLILA

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2001011644

Dados do pedido

Número

PI0114753

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

09/10/2001

Publicação

10/02/2004

PCT

EP2001011644

Andamento no INPI

  1. Depósito09/10/01
  2. Publicação10/02/04
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 17/07/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Ciba Specialty Chemicals Holding INC.

CH

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Inventores

J. H. (pessoa física)

DE

V. E. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Prioridades unionistas

EP

00810961.3 · 18/10/2000

Resumo técnico

"PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE COMPOSTOS DE BIS-BENZAZOLILA". A presente invenção refere-se a um processo para a preparação de um composto da fórmula em que Y representa -O-, -S- ou -N(R~ 2~)-, R~ 2~ sendo hidrogênio, C~ 1-~C~ 10~ alquila ou aralquila; Z representa um resíduo de 2,5-furanila, 2,5-tiofenila; 4,4'estilbenila ou 1,2-etilenila e R~ 1~ representa hidrogênio, halogênio, C~ 1~-C~ 10~ alquila, C~ 1~-C~ 10~ alcóxi, ciano, COOM OU SO~ 3~M, M sendo alcalino ou hidrogênio, ou um metal alcalino-terroso, caracterizado por reagir com um composto da fórmula com um ácido dicarboxílico da fórmula HOOC-Z-COOH (3) ou um éster deste, Y, Z, e R~ 1~ sendo como previamente definido, em N-metilpirrolidona ou N,N-dimetilacetamida, na presença de um catalisador acídico e, opcionalmente, na presença de um solvente secundário capaz de remover a água da mistura de reação, que são úteis como agentes de branqueamento ópticos para materiais sintéticos e naturais.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

17/07/2012

RPI 2167

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

22/02/2012

RPI 2146

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/02/2004

RPI 1727

Monitoramento de patentes

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