Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
31/05/2016
RPI 2369
Dados do pedido
Número
PI0114209Tipo
Depósito
Publicação
PCT
FR2001002934 Pedido indeferido em 31/05/2016 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 31/05/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
C. I. (pessoa física)
FR
Inventores
V. C. (pessoa física)
FR
Classificação IPC
Prioridades unionistas
FR
00/12107 · 22/09/2000
Resumo técnico
"DISPOSITIVO DE PRODUÇÃO DE PLASMA, PROCESSO DE IONIZAÇÃO, UTILIZAÇÕES DO PROCESSO E REALIZAÇÕES QUE IMPLEMENTAM O DISPOSITIVO CONFORME A INVENÇÃO". A invenção se aplica ao campo de transformação de materiais e se relaciona a um dispositivo para produzir plasma, um método para ionizar material usando dito dispositivo, usos do método inventivo e processos de produção usando dito dispositivo. Dito dispositivo é caracterizado por compreender uma câmara de ressonância (1), uma camara acústica (5), provida com um dispositivo acústico (7) e uma câmara de sóliton (8) para receber o material tratado vindo da câmara de ressonância (1) enquanto que simultaneamente gera uma reciclagem do ar exterior, definindo dita câmara de sóliton (8), com um membro de sucção pulsante (10) adjacente à saída de dita câmara de sóliton (8), um espaço (11) produzindo material ionizado.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
31/05/2016
RPI 2369
#9.2
Indefiro o pedido de acordo com Art. 24, Art. 15 e Art. 25 da LPI
13/10/2015
RPI 2336
#7.1
23/06/2015
RPI 2320
#1.3
01/07/2003
RPI 1695
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