Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1962 de 12/08/2008.
03/03/2009
RPI 1991
Dados do pedido
Número
PI0111657Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2001017627 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 03/03/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
E.I. Du Pont De Nemours And Company
US
Inventores
E. H. (pessoa física)
US
E. M. (pessoa física)
US
L. W. (pessoa física)
US
L. J. (pessoa física)
US
S. I. (pessoa física)
US
Y. W. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/208,087 · 31/05/2000
US
60/211,601 · 15/06/2000
US
60/214,036 · 23/06/2000
US
60/264,537 · 25/01/2001
Resumo técnico
"COMPLEXO METÁLICO, COMPONENTE CATALISADOR DE POLIMERIZAÇÃO, PROCESSO PARA A POLIMERIZAÇÃO DE OLEFINAS, PROCESSO PARA A FORMAÇÃO DE UM COPOLÍMERO DE MONÔMERO POLAR E ETILENO E POLÍMERO". Complexos metálicos de transição de ligantes de fosfina monoaniônicos selecionados, que também contêm um elemento do Grupo 15 ou 16 (IUPAC) e que são coordenados a um metal de transição do Grupo 3 a 11 (IUPAC) ou metal lantanídeo, são catalisadores de polimerização para a (co)polimerização de olefinas, tais como etileno e -olefinas, e a copolimerização dessas olefinas com olefinas contendo grupos polares. Estes e outros complexos de níquel de ligantes bidentados neutros e monoaniônicos copolimerizam etileno e comonômeros polares, especialmente acrilatos, sob pressões de etileno relativamente altas e temperaturas surpreendentemente altas, proporcionando boa incorporação dos comonômeros polares e boa produtividade de polímero. Estes copolímeros são freqüentemente estruturas exclusivas, que são descritas.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1962 de 12/08/2008.
03/03/2009
RPI 1991
#8.6
Referente à 5ª, 6ª e 7ª anuidades.
12/08/2008
RPI 1962
#1.3
07/10/2003
RPI 1709
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