Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
18/05/2010
RPI 2054
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Dado oficial do INPI
SUBSTRATO COM UMA SUPERFÍCIE ULTRAFÓBICA DE DIFUSÃO DE LUZ REDUZIDA E UM PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DO MESMO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2001005942
Dados do pedido
Número
PI0111185Tipo
Patente de Invenção
Depósito
23/05/2001
Publicação
25/02/2004
PCT
EP2001005942 Andamento no INPI
- Depósito23/05/01
- Publicação25/02/04
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/05/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Sunyx Surface Nanotechnologies GMBH.
DE
Inventores
A. D. (pessoa física)
DE
G. N. (pessoa física)
DE
K. R. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
100 26 299.6 · 26/05/2000
Resumo técnico
"SUBSTRATO COM UMA SUPERFÍCIE ULTRAFÓBICA DE DIFUSÃO DE LUZ REDUZIDA E UM PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DO MESMO". A invenção refere-se a um substrato com uma superfície ultrafóbica de difusão de luz reduzida, a um processo para a produção do dito substrato e ao uso dele. O substrato com uma superfície ultrafóbica de difusão de luz reduzida tem uma perda de difusão total 7%, de preferência, 3% e, especialmente, 1% e um ângulo de contato em relação à água de 140 , de preferência, 150 .
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
10/11/2009
RPI 2027
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
25/02/2004
RPI 1729
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