Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1963 de 19.08.2008.
07/04/2009
RPI 1996
Dados do pedido
Número
PI0110339Tipo
Depósito
Publicação
PCT
FR2001001269 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 07/04/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
J. B. (pessoa física)
FR
Inventores
J. B. (pessoa física)
FR
Classificação IPC
Prioridades unionistas
FR
00/05321 · 26/04/2000
Resumo técnico
"PROCESSO ELETROLÍTICO PARA OXIDAÇÃO POR MICROARCO DE PLASMA E GERADOR ELETRÔNICO DE PONTE DE CORRENTE". A invenção se refere a um método para obter um revestimento cerâmico na superfície de um metal tendo propriedades semicondutoras, tal como alumínio, titânio, magnésio, háfnio, zircônio e suas ligas, transformando por reação físico-química o metal tratado. O método consiste em imergir a peça metálica (5) a ser revestida em uma solução eletrolítica (3) consistindo em uma solução aquosa de hidróxido de metal alcalino, tal como potássio ou sódio, e um sal oxiácido de metal alcalino, a peça metálica formando um dos eletrodos e em aplicar aos eletrodos um sinal geralmente de forma triangular que tem pelo menos uma inclinação dianteira e uma inclinação traseira, com fator de formato variável durante o processo, gerando uma corrente controlada na intensidade, no seu formato e na sua proporção entre intensidade positiva e intensidade negativa.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1963 de 19.08.2008.
07/04/2009
RPI 1996
#8.6
Referente à 5ª, 6ª e 7ª anuidades.
19/08/2008
RPI 1963
#1.3
30/12/2003
RPI 1721
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Monitoramento de patentes
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