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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE REVESTIMENTOS DE SUPERFÍCIE FORTEMENTE ADERENTES POR ENXERTO ATIVADO POR PLASMA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2001001113

Dados do pedido

Número

PI0108155

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

02/02/2001

Publicação

21/01/2003

PCT

EP2001001113

Andamento no INPI

  1. Depósito02/02/01
  2. Publicação21/01/03
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 21/09/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Ciba Specialty Chemicals Holdings INC.

CH

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Inventores

M. K. (pessoa física)

DE

M. B. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

CH

254/00 · 08/02/2000

Resumo técnico

"PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE REVESTIMENTOS DE SUPERFÍCIE FORTEMENTE ADERENTES POR ENXERTO ATIVADO POR PLASMA". A invenção refere-se a um processo para a produção de revestimentos fortemente aderentes sobre um substrato inorgânico ou orgânico, em cujo processo em uma primeira etapa a) o substrato inorgânico ou orgânico é submetido à ação de uma descarga de plasma de temperatura baixa, uma descarga corona, radiação de energia UV alta ou radiação de elétron, a radiação ou descarga é então interrompida, em uma etapa adicional, b) pelo menos um doador de elétron ou H, cada um contendo pelo menos um grupo etilenicamente insaturado, é aplicado ao substrato inorgânico ou orgânico in vacuo ou em pressão normal e reagido com os radicais livres formados lá, e c1) o substrato assim pré-revestido com coiniciador é revestido com uma composição compreendendo, pelo menos, um monômero etilenicamente insaturado ou oligômero e um fotoiniciador e o revestimento é curado por meio de radiação eletromagnética e/ou ionizante; ou c2) o substrato assim pré-revestido com coiniciador é revestido com uma composição compreendendo, pelo menos, um monômero etilenicamente insaturado ou oligômero e um ou mais iniciadores termicamente ativáveis e o revestimento é termicamente curado. A invenção também refere-se ao uso de doadores de elétron ou H, por exemplo aminas, tioéteres ou tióis, possuindo pelo menos um grupo etilenicamente insaturado na produção de tais camadas e aos revestimentos fortemente aderentes propriamente.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 da RPI 2012 de 28/07/2009.

21/09/2010

RPI 2072

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

referente a 6ª,7ª e 8ª anuidades

28/07/2009

RPI 2012

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

21/01/2003

RPI 1672

Monitoramento de patentes

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