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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE IRRADIAÇÃO PARA PRODUZIR COPOLÍMEROS DE ENXERTO DE OLEFINA COM CADEIAS LATERAIS DE PESO MOLECULAR BAIXO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · IB2001002014

Dados do pedido

Número

PI0107401

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

26/10/2001

Publicação

08/10/2002

PCT

IB2001002014

Andamento no INPI

  1. Depósito26/10/01
  2. Publicação08/10/02
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 07/04/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Basell Technology Company BV

NL

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Inventores

C. S. (pessoa física)

US

J. S. (pessoa física)

US

T. P. (pessoa física)

US

V. D. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

09/704,325 · 02/11/2000

Resumo técnico

"PROCESSO DE IRRADIAÇÃO PARA PRODUZIR COPOLÍMEROS DE ENXERTO DE OLEFINA COM CADEIAS LATERAIS DE PESO MOLECULAR BAIXO". Copolímeros de enxerto são preparados, em uma atmosfera substancialmente não oxidante, por (1) irradiando um material de polímero de olefina particulado com radiação ionizante (2) tratando o material de polímero de olefina particulado irradiado com pelo menos um monômero de enxerto que é capaz de formar cadeias laterais no material de polímero de poliolefina, na presença de pelo menos um aditivo para controlar o peso molecular das cadeias laterais do monômero de enxerto polimerizado selecionado de (a) pelo menos um inibidor de polimerização derivado de hidroxilamina, e (b) pelo menos um composto alifático ou aromático tio-, ou nitro-, ou halogênio-substituído ou um derivado de fosfina alifático ou aromático, e (3) desativando os radicais livres residuais no material de polímero de olefina particulado enxertado resultante, e removendo qualquer vinil monômero não reagido do material. Polímeros de enxerto com cadeias laterais de baixo peso molecular são produzidos os quais são mais fáceis de processar e têm morfologia interna e de superfície aperfeiçoada.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho publicado na RPI 1963 de 19.08.2008.

07/04/2009

RPI 1996

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª e 7ª anuidades.

19/08/2008

RPI 1963

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

08/10/2002

RPI 1657

Monitoramento de patentes

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