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Dado oficial do INPI

PROCESSO E SISTEMA DE ADSORÇÃO POR VARIAÇÃO DE PRESSÃO DUPLEX

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0106534

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

27/12/2001

Publicação

09/09/2003

Andamento no INPI

  1. Depósito27/12/01
  2. Publicação09/09/03
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 27/12/2001, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 11/04/2006. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Praxair Technology INC.

US

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Inventores

F. N. (pessoa física)

US

F. L. (pessoa física)

US

G. E. (pessoa física)

US

M. B. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

09/750083 · 29/12/2000

Resumo técnico

"PROCESSO E SISTEMA DE ADSORÇÃO POR VARIAÇÃO DE PRESSÃO DUPLEX". Um sistema e um processo de adsorção por variação de pressão melhorados para a produção de uma alta recuperação de um gás produto elevadamente purificado, tal como argônio, de uma corrente gasosa de alimentação contendo o gás produto e impurezas gasosas empregam primeiro e segundo estágios de adsorção com leitos para a adsorção de impurezas gasosas. O sistema e o processo proporcionam etapas seqüenciais de: pressurização da alimentação; simultâneas pressurização da alimentação e pressurização do produto; adsorção; adsorção e purga; adsorção na ausência de purga; equalização da pressão entre os leitos; evacuação e despressurização do leito adsorvente; evacuação com purga de produto; evacuação sem purga; e equalização da pressão entre os leitos.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

11/04/2006

RPI 1840

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

27/09/2005

RPI 1812

Publicação do pedido de patente

#3.1

09/09/2003

RPI 1705

Pedido de patente depositado

#2.1

26/02/2002

RPI 1625

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