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Dado oficial do INPI

CONJUNTO DE VÁLVULA DE UM COMPRESSOR RECÍPROCO

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0106290

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

19/12/2001

Publicação

14/01/2003

Andamento no INPI

  1. Depósito19/12/01
  2. Publicação14/01/03
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 06/04/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Samsung Gwangju Electronics Co., Ltd.

KR

Samsung Kwang-Ju Electronics CO. LTD.

KR

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Inventores

M. H. (pessoa física)

KR

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

KR

2001-23240 · 28/04/2001

Resumo técnico

"CONJUNTO DE VÁLVULA DE UM COMPRESSOR RECÍPROCO". Conjunto de válvula de um compressor recíproco do tipo fechado. O conjunto de válvula inclui uma placa de válvula disposta entre um corpo de cilindro e uma cabeça de cilindro, uma válvula de palheta para abrir e vedar um orifício de descarga de refrigerante formado na placa de válvula, um primeiro bujão para resistir contra uma força de curvatura da válvula de palheta curvada quando o refrigerante é descarregado, um segundo bujão para resistir contra uma força de curvatura do primeiro bujão pela válvula de palheta, um retentor para limitar o grau de curvatura do segundo bujão pelo primeiro bujão e um parafuso encaixado com o retentor para conexão com o bujão curvado pela válvula de palheta. Quando a pressão de descarga de refrigerante é aumentada, a força de resistência contra a força de curvatura é adicionada pelo primeiro bujão e o segundo bujão, por sua vez e, assim, a eficiência de compressão é aumentada pela mudança do grau de abertura da válvula de palheta que corresponde À mudança de pressão e, ao mesmo tempo, o ruído pode ser reduzido pela redução do choque adicionado à válvula de palheta. Além disso, quando há um aumento anormal do processo de renderização, o grau de deformação do segundo bujão limitado pelo retentor pode ser controlado pelo uso do parafuso.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

06/04/2010

RPI 2048

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

30/12/2008

RPI 1982

Alteração de nome deferida

#25.4

Alterado de: Samsung Kwang-Ju Electronics Co. Ltd.

29/05/2007

RPI 1899

Alteração de sede deferida

#25.7

Sede alterada conforme solicitado na Petição nº 047927/RJ de 27/08/2003.

29/05/2007

RPI 1899

Publicação do pedido de patente

#3.1

14/01/2003

RPI 1671

Pedido de patente depositado

#2.1

19/02/2002

RPI 1624

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